[发明专利]抑制脯氨酸羟化酶活性的化合物的晶型及其应用有效

专利信息
申请号: 201280036322.0 申请日: 2012-07-23
公开(公告)号: CN104024227A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 康心汕;龙伟;胡云雁;王印祥 申请(专利权)人: 北京贝美拓新药研发有限公司
主分类号: C07D217/26 分类号: C07D217/26;A61K31/472;A61P3/10;A61P7/06;A61P9/12;A61P17/02;A61P29/00;A61P35/00;A61P37/06;A61P43/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100176 北京市大兴区经济技*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抑制 脯氨酸 羟化酶 活性 化合物 及其 应用
【权利要求书】:

1.结构式I所示化合物的晶型,

2.根据权利要求1所述的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图具有衍射角2θ约为5.9°、11.0°和25.9°的特征峰。

3.根据权利要求2所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

4.根据权利要求2所述的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图具有衍射角2θ约为5.9°、11.0°、17.6°、22.6°、25.9°和26.9°的特征峰。

5.根据权利要求4所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

6.根据权利要求2所述的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图具有衍射角2θ约为5.9°、11.0°、14.8°、17.6°、22.6°、24.0°、25.9°和26.9°的特征峰。

7.根据权利要求6所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

8.根据权利要求1所述的结构式I所示化合物的晶型,其特征在于:具有如图1所示的X-射线粉末衍射图。

9.根据权利要求2~8任一项所述的晶型,其特征在于,所述晶型熔点为174-177℃。

10.根据权利要求2~9任一项所述的晶型,其特征在于,所述晶型纯度≥85%。

11.根据权利要求10所述的晶型,其特征在于,所述晶型纯度≥95%。

12.根据权利要求11所述的晶型,其特征在于,所述晶型纯度≥99%。

13.根据权利要求1所述的结构式I所示化合物的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图中具有衍射角2θ约为8.2°、14.5°和26.6°的特征峰。

14.根据权利要求13所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

15.根据权利要求13所述的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图中具有衍射角2θ约为8.2°、13.3°、14.5°、21.2°和26.6°的特征峰。

16.根据权利要求15所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

17.根据权利要求13所述的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图中具有衍射角2θ约为8.2°、9.6°、13.3°、14.5°、21.2°、22.8°、25.4°和26.6°的特征峰。

18.根据权利要求17所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

19.根据权利要求1所述的结构式I所示化合物的晶型,其特征在于:具有如图2所示的X-射线粉末衍射图。

20.根据权利要求13~19任一项所述的晶型,其特征在于,所述晶型熔点为209-212℃。

21.根据权利要求13~20任一项所述的晶型,其特征在于,所述晶型纯度≥85%。

22.根据权利要求21所述的晶型,其特征在于,所述晶型纯度≥95%。

23.根据权利要求22所述的晶型,其特征在于,所述晶型纯度≥99%。

24.根据权利要求1所述的结构式I所示化合物的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图中具有衍射角2θ约为6.2°、17.8°和26.2°的特征峰。

25.根据权利要求24所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

26.根据权利要求24所述的晶型,其特征在于:该晶型X射线粉末衍射谱图中具有衍射角2θ约为6.2°、17.8°、22.0°、26.2°和26.9°的特征峰。

27.根据权利要求26所述的晶型,其特征在于:所述衍射角2θ对应的晶面间距分别为和

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京贝美拓新药研发有限公司,未经北京贝美拓新药研发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280036322.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top