[发明专利]抗下垂石膏制品及其制造方法

权利要求书

1.一种石膏板组合物，包括：

石膏和抗形变添加剂，

其中所述抗形变添加剂包括含有化学式(1)中所示基团的化合物，

且所述化合物不含羧酸根基团，

其中，所述R¹和/或R²为氢、或金属离子、或烷基、或烷氧基、或烯基。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述组合物包括选自抗坏血酸、抗坏血酸衍生物和抗坏血酸盐中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的组合物，其中所述抗坏血酸衍生物包括选自L-抗坏血酸硬脂酸酯和L-抗坏血酸6-棕榈酸酯中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的组合物，其中所述抗坏血酸盐是抗坏血酸钙。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述含化学式(1)中所示基团的化合物包括化学式(2)中所示的基团，

6.根据权利要求5所述的组合物，其中所述含化学式(2)中所示基团的化合物为丹宁酸或邻苯三酚。

7.根据权利要求1所述的组合物，其中所述含化学式(1)中所示基团的化合物包括化学式(3)中所示的基团，

其中，所述R¹和/或R²为氢、或金属离子、或烷基、或烷氧基、或烯基。

8.根据权利要求1所述的组合物，其中所述含化学式(1)中所示基团的化合物包括化学式(4)中所示的基团，

其中，所述R¹和/或R²为氢、或金属离子、或烷基、或烷氧基、或烯基。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的组合物，其中所述化合物相对于所述石膏的质量百分比为0.01％～5％。

10.一种形成组合物的方法，包括：

将石膏粉末和抗形变添加剂与水混合；以及

搅拌所述混合物，

其中所述抗形变添加剂包括含有化学式(1)中所示基团的化合物，

且所述化合物不含羧酸根基团，

其中，所述R¹和/或R²为氢、或金属离子、或烷基、或烷氧基、或烯基。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述化合物相对于所述石膏粉末的质量比为0.01～5.0％。

12.一种石膏板，包括：

石膏、淀粉、分散剂、促凝剂，抗形变添加剂，和任选的发泡剂，

其中所述抗形变添加剂包括含有化学式(1)中所示基团的化合物，

化学式(1)，

且所述化合物不含羧酸根基团，

其中，所述R¹和/或R²为氢、或金属离子、或烷基、或烷氧基、或烯基。

13.根据权利要求12所述的石膏板，其中所述化合物包括选自抗坏血酸、抗坏血酸衍生物和抗坏血酸盐中的至少一种。

14.根据权利要求13所述的石膏板，其中所述抗坏血酸衍生物包括选自L-抗坏血酸硬脂酸酯和L-抗坏血酸6-棕榈酸酯中的至少一种。

15.根据权利要求13所述的石膏板，其中所述抗坏血酸盐是抗坏血酸钙。

16.根据权利要求12所述的石膏板，其中所述含化学式(1)中所示基团的化合物包括化学式(2)中所示的基团，

17.根据权利要求16所述的石膏板，其中所述含化学式(2)中所示基团的化合物为丹宁酸或邻苯三酚。

18.根据权利要求12所述的石膏板，其中所述含化学式(1)中所示基团的化合物包括化学式(3)中所示的基团，

19.根据权利要求12所述的石膏板，其中所述含化学式(1)中所示基团的化合物包括化学式(4)中所示的基团，

20.根据权利要求12所述的石膏板，其中所述石膏产品为石膏板，该石膏板被衬垫包裹。

21.根据权利要求20所述的石膏板，其中所述衬垫为纸张、含有聚合物和/或玻璃纤维的非织造垫等。