[发明专利]研磨垫无效
| 申请号： | 201280034910.0 | 申请日： | 2012-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN103648717A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 竹内奈奈;福田诚司;奧田良治;笠井重孝 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;李婷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【权利要求书】：
1. 一种研磨垫，是至少具有研磨层和缓冲层的研磨垫，其特征在于：
所述研磨层在研磨面具备槽，该槽具有侧面和底面，
所述侧面的至少一方由第一侧面和第二侧面构成，所述第一侧面与所述研磨面连续，且与所述研磨面所成的角度为α，所述第二侧面与该第一侧面连续，且与平行于所述研磨面的面所成的角度为β，
与所述研磨面所成的角度α大于90度，与平行于所述研磨面的面所成的角度β为85度以上，并且与平行于所述研磨面的面所成的角度β比与所述研磨面所成的角度α更小，
从所述研磨面到所述第一侧面与所述第二侧面的曲折点为止的曲折点深度为0.4mm以上、3.0mm以下，
所述缓冲层的应变常数为7.3×10-6μm/Pa以上、4.4×10-4μm/Pa以下。
2. 根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，与所述研磨面所成的角度α和与平行于所述研磨面的面所成的角度β之差为10度以上、65度以下。
3. 根据权利要求1或2所述的研磨垫，其特征在于，与所述研磨面所成的角度α为105度以上、150度以下。
4. 根据权利要求1至3中任一项所述的研磨垫，其特征在于，与平行于所述研磨面的面所成的角度β为85度以上、95度以下。
5. 根据权利要求1至4中任一项所述的研磨垫，其特征在于，所述研磨面的槽的图案为格子状。
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