[发明专利]排水的处理方法有效
申请号: | 201280034853.6 | 申请日: | 2012-07-18 |
公开(公告)号: | CN103687817A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 田中有;吉田太郎 | 申请(专利权)人: | 栗田工业株式会社 |
主分类号: | C02F1/58 | 分类号: | C02F1/58;B01D21/01;C02F1/56;C02F1/62;G02B5/20 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张永康;向勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 排水 处理 方法 | ||
技术领域
本发明涉及排水的处理方法,特别是涉及将滤色器(color filter)排水或铜蚀刻排水与铝蚀刻排水进行混合而处理的方法。
背景技术
电视接收机或OA用的显示装置所使用的滤色器,通常,在由玻璃等所构成的透明基板上,将含有金属铬(Cr)或黑色颜料的光阻剂等所构成的遮光层经由光刻法形成规定图案,并于此遮光层上形成透明着色层,于此着色层上依次层叠形成透明导电膜、配向膜。着色层与透明导电膜之间有时会形成透明保护膜。
在通过光刻法在黑色矩阵(Black Matrix)、着色像素、及伴随的各层形成图案时,例如,首先对于玻璃基板根据需要实施洗净处理,接着,依次实施经涂布装置进行的光阻剂的涂布、经减压干燥装置进行的预备干燥处理、经预焙烤装置进行的预焙烤处理、经曝光装置进行的图案曝光、经显影装置进行的显影处理、经后焙烤装置进行的后焙烤处理,在玻璃基板上形成规定的图案。
在专利文献1中记载了一种处理来自滤色器制造装置的废水的废水处理方法,其中,在分离颜料成分后,注入臭氧除去有机成分,接着,进行逆渗透膜分离处理,然后,进行生物处理。
印刷布线基板是通过使用蚀刻液对层叠有金属箔的覆金属层叠板或实施过镀敷处理基板进行蚀刻而制造。当金属是铝的情形时,作为蚀刻液,则使用有盐酸等。
在使用蚀刻液对层叠有铜等的金属箔的覆金属层叠板或预先实施有非电解镀铜等的镀敷的印刷布线基板进行蚀刻时,作为蚀刻液,使用含有氯化铜的蚀刻液或含有硫酸及过氧化氢的蚀刻液等。
作为含有金属成分的蚀刻排水的处理方法,广泛地采用通过调整pH值使金属成分不溶解化,然后,进行固液分离的方法。
作为铝蚀刻步骤排水的处理方法,在专利文献2中记载有下述方法:对排水进行蒸馏浓缩,在馏出磷酸以外的酸之后,使磷酸结晶析出,将铝作为水溶液进行分离回收。
在专利文献3的第0004段中记载有下述内容:虽然已知在铜蚀刻排水中添加氢氧化钠,作为氢氧化物进行沉淀去除的方法,但是,其生成的污泥量多。
在专利文献4中记载有下述内容:在铜蚀刻排水中添加稀土类元素后,添加碱,使铜沉淀分离。
在专利文献5中记载有下述内容:将含铜的含光阻剂排水,首先调整为酸性使光阻剂不溶解化,接着,调整pH值为8~9,使铜作为氢氧化铜析出并进行分离。
在通过pH值调整来处理铝蚀刻排水与铜蚀刻排水时,因为铝与铜的析出pH值不相同,以往都是单独处理。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本特开2008-642
[专利文献2]日本特开2006-69845
[专利文献3]日本特开2010-77521
[专利文献4]日本特开2004-183036
[专利文献5]日本特开2006-255668
发明内容
[发明要解决的课题]
在处理铝蚀刻排水与滤色器排水或铜蚀刻排水时,以往都是单独处理。因此,处理设备需要2套系统,并且,从各设备分别产生大量的污泥。
本发明的目的是提供一种蚀刻排水的处理方法,其能够对铝蚀刻排水与滤色器排水或与铜蚀刻排水进行处理,并且处理设备使用1套系统即可,并且产生的污泥量也少。
[解决课题的方法]
本发明的排水的处理方法,其将滤色器排水或铜蚀刻排水与铝蚀刻排水混合,在添加钙化合物后,进行固液分离。
作为此钙化合物,可以适宜使用氯化钙或氢氧化钙。在添加钙化合物后,可将pH值设为7~12,也可添加高分子凝集剂。
[发明的效果]
在铝蚀刻排水中含有磷酸成分。因此,在将铝蚀刻排水与滤色器排水混合后,添加钙化合物,则会生成磷酸钙,氢氧化铝及滤色器中的浊质与磷酸钙共同沉淀,从而能够同时从水中去除铝及各种金属。
在铝蚀刻排水与铜蚀刻排水混合后,添加钙化合物,则会生成磷酸钙,氢氧化铜及氢氧化铝与磷酸钙共同沉淀,从而能够同时从水中去除铝及铜。
具体实施方式
[将滤色器排水与铝蚀刻排水进行混合而进行处理的第1实施方式]
在第1实施方式中,作为处理对象的通常的滤色器排水,浊度100~5000度、色度1000~50000度、总有机碳(TOC)成分100~5000mg/L、pH值8~14。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于栗田工业株式会社,未经栗田工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280034853.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种正辛胺的合成方法
- 下一篇:一种用于双组元推力器的孔板组件