[发明专利]用于校准成像装置的方法和设备

权利要求书

1.一种校准立体成像装置的方法，其包括：

用第一图像传感器俘获所关注场景的第一图像；

用第二图像传感器俘获所述所关注场景的第二图像，其中所述第一图像和第二图像构成立体图像对；

基于所述第一图像和所述第二图像来确定一组关键点匹配，所述组关键点匹配构成关键点星座；

评估所述关键点星座的质量以确定关键点星座质量水平；以及

确定所述关键点星座质量水平是否超过预定阈值，其中在超过所述阈值的情况下，基于所述关键点星座而产生校准数据且将所述校准数据存储到非易失性存储装置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述关键点星座而产生校准数据包括：

确定所述组关键点匹配中的一个或一个以上关键点匹配中的关键点之间的一个或一个以上垂直视差向量；

基于所述一个或一个以上垂直视差向量而确定垂直视差度量；

将所述垂直视差度量与阈值进行比较；以及

在所述垂直视差度量高于所述阈值的情况下，至少部分基于所述组关键点匹配来确定关键点匹配调整。

3.根据权利要求2所述的方法，其中确定关键点匹配调整包括：

基于所述组关键点匹配来确定仿射拟合；

基于所述组关键点匹配来确定投影拟合；

基于所述仿射拟合和所述投影拟合而产生投影矩阵；以及

基于所述投影矩阵来调整所述组关键点匹配。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述校准数据包含所述投影矩阵。

5.根据权利要求3所述的方法，其中基于所述组关键点匹配确定仿射拟合会确定横滚估计、俯仰估计和尺度估计。

6.根据权利要求3所述的方法，其中确定所述投影拟合会确定偏航估计。

7.根据权利要求3所述的方法，其进一步包括基于所述经调整的组的关键点匹配来调整所述立体图像对。

8.根据权利要求3所述的方法，其进一步包括基于所述经调整的组的关键点匹配来确定新的垂直视差向量，且在所述新的垂直视差向量指示高于阈值的视差的情况下进一步调整所述组关键点匹配。

9.根据权利要求8所述的方法，其中重复执行对所述组关键点匹配的所述调整以及确定新的垂直视差向量，直到所述新的垂直视差向量指示低于阈值的视差为止。

10.根据权利要求1所述的方法，其中响应于加速度计的输出超过阈值而执行所述方法。

11.根据权利要求1所述的方法，其中响应于自动聚焦事件而执行所述方法。

12.根据权利要求1所述的方法，其中对所述关键点星座的所述质量的所述评估包含确定关键点之间的距离。

13.根据权利要求1所述的方法，其中评估所述关键点星座的所述质量包括确定每一关键点到图像隅角的距离。

14.根据权利要求1所述的方法，其中评估所述关键点星座的所述质量包括确定关键点匹配的数目。

15.根据权利要求1所述的方法，其中对所述关键点星座的所述质量的所述评估包括确定从所述关键点星座导出的一个或一个以上估计对关键点位置中的扰动的敏感度。

16.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括基于每一关键点匹配的位置来修剪所述组关键点匹配以从所述组关键点匹配移除一个或一个以上关键点匹配。

17.一种成像设备，其包括：

第一成像传感器；

第二成像传感器；

传感器控制模块，其经配置以从所述第一成像传感器俘获第一立体图像对的第一图像且从所述第二成像传感器俘获所述第一立体图像对的第二图像；

关键点模块，其经配置以确定所述第一图像与所述第二图像之间的一组关键点匹配；

关键点质量模块，其经配置以评估所述组关键点匹配的质量以确定关键点星座质量水平；以及

主控制模块，其经配置以将所述关键点星座质量水平与预定阈值进行比较，且在所述关键点星座质量水平高于所述预定阈值的情况下，基于所述关键点星座来调整所述立体图像对。