[发明专利]光转换用陶瓷复合体的制造方法有效
| 申请号： | 201280033953.7 | 申请日： | 2012-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN103732354A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 稻森太;河野孝史 | 申请（专利权）人： | 宇部兴产株式会社 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B37/00;C04B35/653;C09K11/00;C09K11/80;H01L33/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 转换 陶瓷 复合体 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光转换用陶瓷复合体的制造方法，具备下述步骤：
步骤1：对具有Al2O3相与Al2O3相以外的氧化物结晶相连续且三维地相互交杂的组织的凝固体进行干式刻蚀加工，由此形成相间阶差使该凝固体表面的该Al2O3相以外的氧化物结晶相相对于该Al2O3相呈凸起状；及
步骤2：通过对该干式刻蚀加工后的凝固体进行CMP加工或MP加工，以使该相间阶差缩小。
2.如权利要求1的光转换用陶瓷复合体的制造方法，其中，该Al2O3相以外的氧化物结晶相为发荧光的荧光体，为含有Ce的YAG(Y3Al5O12)相或含有Ce及Gd的YAG(Y3Al5O12)相。
3.如权利要求1或2的光转换用陶瓷复合体的制造方法，其中，该步骤2中的加工后的该相间阶差在0.005μm以下。
4.如权利要求1至3中任一项的光转换用陶瓷复合体的制造方法，其中，该步骤2中的缩小该相间阶差的加工为CMP加工。
5.如权利要求4的光转换用陶瓷复合体的制造方法，其中，在进行该CMP加工时，使用含有0.1质量％以上、未达5质量％的二氧化硅粒子的浆体作为研磨液。
6.如权利要求4或5的光转换用陶瓷复合体的制造方法，其中，在进行该CMP加工时，施加10～50kPa的单位载重。
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