[发明专利]用于低相干干涉测量的扫描设备

权利要求书

1.一种低相干干涉测量系统，包括：

第一多路复用单元，配置为接收第一辐射束并且包括第一多个光延迟元件，所述第一多个光延迟元件配置为基于由所述第一辐射束在第一多个光波导当中穿过的光学路径对所述第一辐射束引入组延迟；及

第二多路复用单元，配置为接收第二辐射束并且包括第二多个光调制元件，所述第二多个光调制元件配置为在第二多个光波导当中区分所述第二辐射束，以便产生一个或多个输出辐射束，

其中所述第二多个光波导配置为朝着样品引导所述一个或多个输出辐射束。

2.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第一多路复用单元进一步包括多个切换元件，以便选择由辐射束在第一多个光波导当中穿过的光学路径。

3.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第一多路复用单元进一步包括多个相位调制元件。

4.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二多路复用单元配置为从第一多路复用单元的单个输出接收辐射束。

5.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二多路复用单元配置为从第一多路复用单元的仅两个输出中的一个输出接收辐射束。

6.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，还包括设置于第二多路复用单元和样品之间的光学元件。

7.如权利要求6所述的低相干干涉测量系统，其中所述光学元件是单个透镜。

8.如权利要求7所述的低相干干涉测量系统，其中所述透镜配置为把一个或多个输出辐射束聚焦到焦平面上，使得该焦平面处的相邻射束的中心之间的距离比该焦平面处的射束中的一个的直径大1到10倍之间。

9.如权利要求7所述的低相干干涉测量系统，还包括多个透镜，每个透镜都比所述单个透镜小，所述多个透镜配置为把一个或多个输出辐射束的至少一个子集聚焦到样品的第一目标区域上并且把一个或多个输出辐射束的至少另一个子集聚焦到样品的第二目标区域上。

10.如权利要求6所述的低相干干涉测量系统，其中所述光学元件是梯度折射率（GRIN）透镜。

11.如权利要求6所述的低相干干涉测量系统，还包括设置于光学元件下游并且配置为改变一个或多个输出辐射束的传播方向的反射元件。

12.如权利要求11所述的低相干干涉测量系统，其中改变后的传播方向基本上垂直于原始的传播方向。

13.如权利要求11所述的低相干干涉测量系统，其中反射元件的朝向是可调节的，使得对一个或多个输出辐射束的传播方向的改变角度是可调节的。

14.如权利要求13所述的低相干干涉测量系统，其中可调节的反射元件包括微机电部件。

15.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二多个光调制元件包括相位调制元件。

16.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二多个光调制元件包括光延迟元件。

17.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二多个光调制元件包括光切换元件。

18.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中组延迟与样品的扫描深度关联并且进行到第二多路复用单元中的一个或多个输出辐射束。

19.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二多个光波导进一步配置为从样品收集散射的辐射。

20.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第一多个光波导和第二多个光波导集成在同一个基底上。

21.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，还包括配置为弯曲第二多个光波导中的一个或多个的微机电致动器。

22.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二辐射束与第一辐射束不同。

23.如权利要求22所述的低相干干涉测量系统，其中第一多路复用单元位于低相干干涉测量系统的参考臂中，而第二多路复用单元位于低相干干涉测量系统的样品臂中。

24.如权利要求1所述的低相干干涉测量系统，其中第二辐射束与第一辐射束相同。