[发明专利]光学层叠体及光学层叠体的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及具有单体透过率不同的至少2个偏光区域的光学层叠体以及光学层叠体的制造方法。

背景技术

已知有将含有具有溶致液晶性的二色性液晶化合物的涂布液涂布在实施了取向处理的基材表面，使该涂膜固化，由此得到在规定方向具有吸收轴的偏振片层（专利文献1）。该偏振片层在规定方向产生吸收轴的原理是：根据进行了取向处理的基材表面，二色性液晶化合物沿规定方向取向。

应用该原理，作为前述基材，通过使用表面分成多个区域、且各个区域实施了不同的取向处理的基材，可以形成具有吸收轴的方向不同的多个偏光区域的图案化偏振片层（专利文献2和3）。

如上所述，前述图案化偏振片层具有吸收轴的方向不同的多个偏光区域，因此根据这些偏光区域的吸收轴的方向，可以控制透过或不透过光。即，使特定的直线偏光照射图案化偏振片层时，在某一偏光区域该偏光透过，并且在其他偏光区域该偏光不透过。

具有这种图案化偏振片层的光学层叠体例如可以用于利用潜像的真伪判别介质等。

然而，在现有的图案化偏振片层中，只能控制多个偏光区域的偏光的透过或不透过。因此，将现有的图案化偏振片层用于例如真伪判别介质时，难以在其偏振片层设定具有更复杂图案的潜像。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-173849号公报

专利文献2：日本特许第4168173号（日本特开2001-159713号公报）

专利文献3：日本特许第4175455号（日本特开2002-357720号公报）

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供具有能够设定更复杂图案的图案化偏振片层的光学层叠体以及光学层叠体的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明的光学层叠体具有图案化偏振片层和基材，所述图案化偏振片层具有单体透过率不同的至少2个偏光区域。

对于本发明的优选的光学层叠体，前述图案化偏振片层通过利用印刷法将含有二色性液晶化合物的涂布液涂布在前述基材的表面而形成。

对于本发明的进一步优选的光学层叠体，具有前述2个偏光区域的厚度不同的部分。

对于本发明的进一步优选的光学层叠体，前述图案化偏振片层含有取向了的二色性液晶化合物。

对于本发明的进一步优选的光学层叠体，前述二色性液晶化合物具有溶致液晶性。

根据本发明的另一个方面，提供光学层叠体的制造方法。

该光学层叠体的制造方法使用印刷机，将含有二色性液晶化合物的涂布液涂布在基材的表面，在前述基材的表面形成图案化偏振片层。

对于本发明的优选的光学层叠体的制造方法，通过一边使前述涂布液的涂布量变化一边将前述涂布液涂布于基材而形成前述图案化偏振片层。

对于本发明的进一步优选的光学层叠体的制造方法，前述基材的表面被实施了取向处理。

发明的效果

本发明的光学层叠体由于具有拥有单体透过率不同的至少2个偏光区域的图案化偏振片层，因此可以设定更复杂的图案。

附图说明

图1是示意性示出第1实施方式的光学层叠体的俯视图。

图2是示出沿图1的II-II线切开的端面的图。

图3是示意性示出第2实施方式的光学层叠体的俯视图。

图4是示意性示出第3实施方式的光学层叠体的俯视图。

图5是示意性示出第4实施方式的光学层叠体的俯视图。

图6是示出沿图5的VI-VI线切开的端面的图。

图7是示意性示出第5实施方式的光学层叠体的俯视图。

图8是示出沿图7的VIII-VIII线切开的端面的图。

图9是示意性示出第6实施方式的光学层叠体的俯视图。

图10是示出沿图9的X-X线切开的端面的图。

图11是将实施例1中制作的光学层叠体的表面局部扩大了的照片图。

图12是将实施例2中制作的光学层叠体的表面局部扩大了的照片图。

图13是将实施例3中制作的光学层叠体的表面局部扩大了的照片图。

具体实施方式

以下对本发明进行具体说明。

在本说明书中，有时会在名称前加“第1”、“第2”等，该第1等是为了区别名称而加上的，并不意味名称的优劣、顺序等。