[发明专利]X射线成像设备和用于其的校准方法无效
| 申请号: | 201280033444.4 | 申请日: | 2012-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN103635139A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
| 发明(设计)人: | 赤堀贞登 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | A61B6/02 | 分类号: | A61B6/02;A61B6/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李宝泉;周亚荣 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 射线 成像 设备 用于 校准 方法 | ||
1.一种X射线成像设备,包括:
X射线源,所述X射线源能够沿着预定移动路径移动;
移动装置,所述移动装置用于使所述X射线源沿着所述预定移动路径移动;
成像平台,所述成像平台被设置成面对所述X射线源;
平板型X射线检测器,所述平板型X射线检测器被提供至所述成像平台;
标记,所述标记被设置在所述成像平台中;
控制单元,所述控制单元使所述X射线源经由所述移动装置移动,并且从至少两个位置捕捉分别包括所述标记的图像;以及
图像处理单元,所述图像处理单元计算在被捕捉图像中的每一个中的所述标记的图像的位置,并且基于所述标记的图像的位置之间的相对关系,计算所述X射线源的移动轴相对于所述X射线检测器的斜率。
2.根据权利要求1所述的X射线成像设备,其中,相对于所述X射线检测器的所述斜率是在平行于所述X射线检测器的表面的平面中的第一斜率。
3.根据权利要求1或2所述的X射线成像设备,其中,所述图像处理单元进一步计算在所述被捕捉图像中的每一个中的所述标记的图像的尺寸的改变,使用所述尺寸的改变来计算在所述X射线源和所述X射线检测器之间的距离,并且计算在垂直于所述X射线检测器的表面的平面中的第二斜率作为相对于所述X射线检测器的另一个斜率。
4.根据权利要求1至3中的任何一项所述的X射线成像设备,其中,所述图像处理单元对于所述X射线源的每个成像位置计算相对于所述X射线检测器的所述斜率。
5.根据权利要求1至4中的任何一项所述的X射线成像设备,其中,所述图像处理单元具有使用通过使所述X射线源经由所述移动装置移动到预定成像位置并且执行断层合成成像操作而获得的多个图像来重构断层分析图像的功能,并且
其中,所述图像处理单元使用相对于所述X射线检测器的所述斜率来重构所述断层分析图像。
6.一种X射线成像设备的校准方法,所述X射线成像设备包括:成像平台,所述成像平台被设置成面对X射线源,所述X射线源能够沿着预定移动路径移动;平板型X射线检测器,所述平板型X射线检测器被提供至所述成像平台;以及标记,所述校准方法包括步骤:
使所述X射线源移动并且从至少两个位置捕捉分别包括所述标记的图像;以及
计算在被捕捉图像中的每一个中的所述标记的图像的位置,并且基于所述标记的图像的位置之间的相对关系,计算所述X射线源的移动轴相对于所述X射线检测器的斜率。
7.根据权利要求6所述的校准方法,其中,相对于所述X射线检测器的所述斜率是在平行于所述X射线检测器的表面的平面中的第一斜率。
8.根据权利要求6或7所述的校准方法,进一步包括步骤:计算在所述被捕捉图像中的每一个中的标记图像的尺寸的改变,使用所述尺寸的改变来计算在所述X射线源和所述X射线检测器之间的距离,并且计算在垂直于所述X射线检测器的表面的平面中的第二斜率作为相对于所述X射线检测器的另一个斜率。
9.根据权利要求6至8中的任何一项所述的校准方法,其中,对于所述X射线源的每个成像位置计算相对于所述X射线检测器的所述斜率。
10.一种X射线成像设备,包括:
X射线源,所述X射线源能够沿着预定移动路径移动;
移动装置,所述移动装置用于使所述X射线源沿着所述预定移动路径移动;
成像平台,所述成像平台被设置成面对所述X射线源;
平板型X射线检测器,所述平板型X射线检测器被提供至所述成像平台;
标记,所述标记被设置在所述成像平台中;
校准单元,所述校准单元对被设置成面对所述X射线检测器的所述X射线源的移动方向的未对准执行校准操作;以及
确定单元,所述确定单元确定所述校准单元是否应该更新校准,并且基于确定结果使所述校准单元执行所述校准操作,
其中,通过所述X射线源捕捉包括所述标记的图像,通过所述校准单元计算在被捕捉图像中的所述标记的图像的位置,并且所述确定单元基于所述标记的图像的位置确定是否更新所述校准。
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