[发明专利]机械应力下具有改进抗裂性能的含抗反射涂层光学物品

权利要求书

1.一种光学物品，以下列顺序从衬底开始包括：

(a)一个由有机玻璃制成的包括两个主面的透明衬底，

(b)一个包含聚氨酯的底漆涂层，沉积在该由玻璃制成的衬底的这两个主面的至少一个上，

(c)一个沉积在该底漆涂层上的耐磨涂层，以及

(d)一个沉积在该耐磨涂层上的抗反射涂层，

其特征在于，该底漆涂层另外包括微粒状硅石。

2.如权利要求1所述的光学物品，其特征在于，相对于干涂层的重量在该干底漆涂层中的微粒状硅石的重量百分比是在20%和70%之间、优选在35%和65%之间并且更优选在45%和55%之间。

3.如权利要求1或权利要求2所述的光学物品，其特征在于，这些硅石微粒的平均尺寸是在5nm和50nm之间，优选在5nm和15nm之间并且更优选在7nm和12nm之间。

4.如权利要求1至3中任一项所述的光学物品，其特征在于，相对于干涂层的重量在该干底漆涂层中的聚氨酯的重量百分比是在30%和80%之间、优选在35%和65%之间并且更优选在45%和55%之间。

5.如权利要求1至3中任一项所述的光学物品，其特征在于，相对于干涂层的体积在该干底漆涂层中的微粒状硅石的体积百分比是在10%和50%之间、优选在20%和40%之间并且更优选在25%和35%之间。

6.如权利要求1至5中任一项所述的光学物品，其特征在于，在该干底漆涂层中该微粒状硅石与该聚氨酯的重量比是在0.2和2.5之间、优选在0.5和1.5之间并且更优选在0.9和1.1之间。

7.如权利要求1至6中任一项所述的光学物品，其特征在于，该底漆涂层的厚度是在0.2μm和2.5μm之间、优选在0.5μm和1.5μm之间并且仍然更优选在0.5μm和1μm之间。

8.如权利要求1至7中任一项所述的光学物品，其特征在于，它展现出1.5的折射率。

9.一种用于制造光学物品的方法，包括下列步骤：

(1)提供一个由玻璃制成的包括两个主面的透明衬底；

(2)在这两个主面的至少一个上沉积一个液体底漆组合物的层，该底漆组合物包含一种聚氨酯分散体以及胶体硅石，并且然后将所述底漆组合物固化以获得一个底漆涂层；

(3)将一个耐磨涂层沉积在该底漆涂层上；

(4)将一个抗反射涂层沉积在该耐磨涂层上。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，步骤(2)是以下列方式进行的：

-(a)在该衬底上施加一个包含聚氨酯分散体以及胶体硅石的液体底漆组合物的层；

-(b)将步骤(1)中获得的衬底在50℃和150℃之间、优选在70℃和110℃之间的温度下干燥在2分钟和4小时之间、优选在10分钟和3.5小时之间的一段时间。

11.如权利要求9或权利要求10所述制造方法，其特征在于，该胶体硅石展现出在5nm和50nm之间，优选在5nm和15nm之间，并且更优选在7nm和12nm之间的平均粒径。

12.如权利要求9至11中任一项所述制造方法，其特征在于，在该底漆组合物中硅石的重量百分比是在3%和14%之间并且优选在6%和11%之间。

13.如权利要求9至12中任一项所述制造方法，其特征在于，在该底漆组合物中聚氨酯的重量百分比是在6%和17%之间并且优选在9%和14%之间。

14.如权利要求9至13中任一项所述制造方法，其特征在于，该底漆组合物另外包含一种表面活性剂。

15.一种能够根据在权利要求9至14中任一项所定义的方法获得的光学物品。

16.微粒状硅石在一种光学物品中的用途，这种光学物品以下列顺序从衬底开始包括：

(a)一个由玻璃制成的包括两个主面的衬底，

(b)一个包含聚氨酯的底漆涂层，沉积在该由玻璃制成的衬底的两个主面的至少一个上，

(c)一个沉积在该底漆涂层上的耐磨涂层，以及

(d)一个沉积在该耐磨涂层上的抗反射涂层，

用于增强在所述光学物品经受机械应力时该抗反射涂层的抗裂性，

其特征在于，将所述微粒状硅石引入到所述底漆涂层中。