[发明专利]具有良好的光提取性能的无机粒子散射膜

权利要求书

1.一种用于改良光提取的无机细粒散射膜，其包含具有孔隙的无机细粒层；以及用于保护所述无机细粒层且使其平坦化的平坦化层。

2.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述无机细粒层的无机细粒的折射率为1.7或高于1.7。

3.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述无机细粒层的无机细粒包含金属氧化物，所述金属氧化物包含选自由以下组成的群组的金属：Li、Be、B、Na、Mg、Si、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Rb、Sr、Y、Mo、Cs、Ba、La、Hf、W、Tl、Pb、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Ti、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、In以及其组合。

4.根据权利要求3所述的无机细粒散射膜，其中所述金属氧化物是选自由以下组成的群组：氧化锆（ZrO₂）；氧化铪（HfO₂）；氧化钽（Ta₂O₅）；氧化钛（TiO₂）；氧化钇（Y₂O₃）；氧化锌（ZnO）；由氧化钇、氧化镁（MgO）、氧化钙（CaO）或氧化铈（CeO₂）稳定或部分稳定的氧化锆（Y₂O₃-ZrO₂、MgO-ZrO₂、CaO-ZrO₂、CeO₂-ZrO₂）；以及其混合物。

5.根据权利要求4所述的无机细粒散射膜，其中所述金属氧化物为由氧化钇稳定或部分稳定的氧化锆。

6.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述无机细粒层的无机细粒的平均粒径（D₅₀）在1纳米到1微米的范围内。

7.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述平坦化层包含有机涂布膜形成材料，且所述有机涂布膜形成材料包含聚丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系的树脂或其混合物。

8.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述平坦化层包含无机涂布膜形成材料，且所述无机涂布膜形成材料包含硅化合物。

9.根据权利要求8所述的无机细粒散射膜，其中所述硅化合物包含二氧化硅、有机硅、硅酸盐或其混合物。

10.根据权利要求8所述的无机细粒散射膜，其中所述无机涂布膜形成材料还包括含有Al、B、Li或Pb的化合物。

11.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述无机细粒散射膜的厚度在100纳米到30微米的范围内。

12.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述无机细粒散射膜的表面平度（Ra）在1纳米到10纳米的范围内。

13.根据权利要求1所述的无机细粒散射膜，其中所述无机细粒散射膜的表面硬度在3H到9H的范围内。

14.一种制造无机细粒散射膜的方法，所述方法包含以下步骤：

提供衬底；

在所述衬底上制造包含孔隙的无机细粒层；以及

在所述无机细粒层上制造平坦化层。

15.根据权利要求14所述的方法，其中在所述衬底上制造包含所述孔隙的所述无机细粒层的所述步骤包含以下步骤：

将包含无机细粒和溶剂的无机细粒涂布组合物涂覆于所述衬底上；以及

加热所述无机细粒涂布组合物以便去除所述溶剂且形成包含所述孔隙的所述无机细粒层。

16.根据权利要求14所述的方法，其中在所述无机细粒层上制造所述平坦化层的所述步骤包含以下步骤：在所述无机细粒层上形成有机聚合物薄膜，随后进行热固化。

17.根据权利要求14所述的方法，其中在所述无机细粒层上制造所述平坦化层的所述步骤包含以下步骤：

将无机涂布膜形成组合物涂覆于所述无机细粒层上；

从所述无机涂布膜形成组合物去除溶剂；以及

通过对去除所述溶剂后所获得的所述无机涂布膜形成组合物进行热处理、电子射线处理或UV射线处理来形成所述平坦化层。