[发明专利]膜表面处理方法及装置有效
申请号: | 201280030972.4 | 申请日: | 2012-08-27 |
公开(公告)号: | CN103619926A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 村上淳之介;中野良宪;长谷川平 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | C08J7/18 | 分类号: | C08J7/18;C08J7/00;C08J7/04;G02B5/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及对树脂制的膜进行表面处理的方法及装置,特别涉及不仅适合于提高膜的粘接性、而且还适合于提高通过粘接而形成的膜层叠体的耐热水性的膜表面处理方法及装置。
背景技术
例如,在液晶显示装置上搭载有偏振板。偏振板成为将偏振膜与保护膜层叠而成的膜层叠体。通常,偏振膜由包含聚乙烯醇(PVA)作为主要成分的树脂膜(以下称为“PVA膜”)构成。保护膜由包含三乙酰纤维素(TAC)作为主要成分的树脂膜(以下称为“TAC膜”)构成。作为将这些膜粘接的粘接剂,使用聚乙烯醇系、聚醚系等的水系粘接剂。PVA膜与上述粘接剂的粘接性良好,但TAC膜的粘接性并不良好。因此,在专利文献1、2中,在上述粘接工序之前,在保护膜的表面形成丙烯酸等聚合性单体的薄膜(冷凝层),然后照射大气压等离子体,从而形成聚丙烯酸等的聚合膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-25604号公报
专利文献2:日本特开2010-150372号公报
发明内容
发明所要解决的问题
发明人认为:对于将上述大气压等离子体照射后的TAC膜与PVA膜粘接而成的偏振板,作为针对高温或高湿度的耐久性评价的代替评价,将其浸入热水中,结果,引起漏色(color omission)、剥离(delamination),对热水的耐性(耐热水性)降低(参照后述比较例1)。特别是,若上述聚合膜为聚丙烯酸等水溶性聚合物,则耐热水性变低。
本发明是鉴于上述事实完成的,其目的在于,在构成偏振板等膜层叠体的树脂膜的表面处理中,不仅提高上述树脂膜的粘接性、而且还提高通过粘接而形成的膜层叠体对于热水的耐性(耐热水性)。
用于解决问题的方法
为了解决上述问题点,本发明的方法是一种膜表面处理方法,其特征在于,是在树脂制的被处理膜的表面上使聚合性单体进行等离子体聚合,从而在所述表面使所述聚合生单体的聚合物进行被膜的膜表面处理方法;
该膜表面处理方法具备:
第一处理工序,使含有经气化的所述聚合性单体和能够使所述聚合物进行等离子体交联的交联性添加成分的第一气体,与所述被处理膜接触,和
第二处理工序,在所述第一处理工序之后或者与所述第一处理工序并行地,使放电生成气体进行等离子体化(包括激发、活化、自由基化、和离子化等),而与所述被处理膜接触;
其中,将所述第一气体中的所述交联性添加成分的相对于所述聚合性单体的含有率调节至规定范围内。
通过第一处理工序及第二处理工序,在被处理膜的表面形成聚合性单体的等离子体聚合物的膜。此时,通过交联性添加成分,能够使上述聚合物交联化(包括高交联度化)。并且,上述聚合物的膜成为粘接性促进层,从而能够提高被处理膜的粘接性,进而,通过上述交联,能够提高上述粘接性促进层的疏水性,进一步提高粘接后的膜层叠体的耐热水性。即使上述聚合物为聚丙烯酸等水溶性聚合物,也能够充分提高疏水性,并且能够充分提高耐热水性。通过调节交联性添加成分的含有率,从而能够确实地体现交联化作用,并且确保粘接性。若上述含有率过小,则无法体现交联化作用。若上述含有率过大,则粘接性降低。
在此,耐热水性是指,对于将上述被处理膜与其他膜粘接而成的偏振板等膜层叠体,即使将其在某种程度的温度(例如50℃~80℃)的热水中浸渍某种程度的时间(例如1h~5h),上述膜层叠体也不易引起漏色、剥离的程度。
上述交联性添加成分相对于聚合性单体的含有率优选为0.5wt%~10wt%。通过使上述含有率为0.5wt%以上,能够确实地体现聚合性单体的交联化作用。通过使上述含有率为10wt%以下,能够维持对粘接剂的亲和性,确实地获得粘接强度。
另外,本发明的装置是一种膜表面处理装置,其特征在于,
是在树脂制的被处理膜的表面上使聚合性单体进行等离子体聚合,从而在所述表面使所述聚合性单体的聚合物进行被膜的膜表面处理装置;
该膜表面处理装置具备:
生成部,其是生成含有所述聚合性单体、和能够使所述聚合物进行等离子体交联的交联性添加成分的第一气体的部分,
第一喷嘴,其是将所述第一气体喷至所述被处理膜的喷嘴,
一对电极,其是一对在相互之间的间隙内通过施加电场而生成大气压附近的放电的电极,
第二喷嘴,其是对所述间隙供给放电生成气体的喷嘴,和
搬送机构,其是按照经过面对所述第一喷嘴的第一处理空间而通过所述间隙的方式搬送所述被处理膜的机构;
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