[发明专利]光学反射膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201280030966.9 申请日: 2012-06-22
公开(公告)号: CN103649790B 公开(公告)日: 2016-10-19
发明(设计)人: 中岛彰久;当间恭雄 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B5/26 分类号: G02B5/26;G02B5/28
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 反射 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学反射膜,其包含基体材料、以及位于基体材料上的至少一个由高折射率层和低折射率层叠层而得到的单元,其中,

所述高折射率层中含有:

金属氧化物粒子、以及

多糖类的烷基醚化合物、糖类A或化合物A的至少一种,

所述糖类A中,由1,4键合形成的主链糖链的平均链长为100以下,且具有1,6键合的支链结构,并且支链糖链的平均链长为1以上且20以下,

所述化合物A具有糖链结构,所述糖链结构中由1,4键合形成的主链糖链的平均链长为100以下且具有1,6键合的支链结构,并且支链糖链的平均链长为1以上且20以下。

2.如权利要求1所述的光学反射膜,其中,所述高折射率层含有所述糖类A或所述化合物A的至少1种。

3.如权利要求1或2所述的光学反射膜,其中,所述糖类A及所述糖链结构为环状。

4.如权利要求1~3中任一项所述的光学反射膜,其中,所述高折射率层含有所述多糖类的烷基醚化合物。

5.如权利要求1或4所述的光学反射膜,其中,所述多糖类的烷基醚化合物为纤维素的烷基醚化合物。

6.如权利要求1~5中任一项所述的光学反射膜,其中,所述金属氧化物粒子为金红石型氧化钛粒子。

7.一种光学反射膜的制造方法,该方法包括,水性同时叠层涂布高折射率层和低折射率层,来形成权利要求1~6中任一项所述的光学反射膜。

8.如权利要求7所述的光学反射膜的制造方法,其中,形成各层的涂布液在40℃下的粘度为50~500mPa·s。

9.一种光学反射体,其在基体的至少一面上设有权利要求1~6中任一项所述的光学反射膜。

10.一种红外线屏蔽膜,其包含基体材料、以及位于基体材料上的至少一个由高折射率层和低折射率层叠层而得到的单元,

在所述高折射率层及所述低折射率层的至少之一的层中含有糖类A或化合物A的至少一种,所述糖类A中,由1,4键合形成的主链糖链的平均链长为100以下且具有1,6键合的支链结构,并且支链糖链的平均链长为1以上且20以下,所述化合物A具有糖链结构,所述糖链结构中由1,4键合形成的主链糖链的平均链长为100以下且具有1,6键合的支链结构,并且支链糖链的平均链长为1以上且20以下。

11.如权利要求10所述的红外线屏蔽膜,其中,在所述高折射率层或所述低折射率层中含有金属氧化物。

12.如权利要求10或11所述的红外线屏蔽膜,其中,所述糖类A及所述糖链结构为环状。

13.如权利要求11所述的红外线屏蔽膜,其中,在所述糖类A或所述化合物A的至少1种的存在下制造所述金属氧化物的粒子。

14.一种红外线屏蔽体,其设置有权利要求10~13中任一项所述的红外线屏蔽膜。

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