[发明专利]用于制备光响应性有机-无机杂化粒子的方法

权利要求书

1.一种用于制备光响应性有机-无机杂化粒子的方法，包括：

(a)将(1)至少一种有机硅烷化合物，所述有机硅烷化合物包含至少两个硅键合的基团，所述基团选自羟基、可水解基团以及它们的组合，和(2)至少一种纯的光敏材料混合，以形成陶瓷前体组合物；以及

(b)允许或引起所述可水解基团的水解和所述有机硅烷化合物的缩合，以形成包含所述光敏材料的有机-无机杂化粒子。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述有机硅烷是纯态，以便提供纯的陶瓷前体组合物。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述有机硅烷选自单有机硅烷、双有机硅烷以及它们的组合。

4.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述有机硅烷化合物选自由以下通式表示的那些：

Si(R)4-p-(X)p   (I)

其中每个R独立地为有机或杂有机基团；每个X独立地选自卤素原子、氢原子、酰氧基、烷氧基、羟基以及它们的组合；并且p为整数2或3。

5.根据权利要求4所述的方法，其中每个所述R独立地选自烷基、烯基、酰基、环烷基、芳基、杂烷基、杂烯基、杂环烷基、杂芳基以及它们的组合；和/或每个所述X独立地选自卤素、氢、烷氧基、羟基以及它们的组合。

6.根据权利要求4或权利要求5所述的方法，其中每个所述R独立地选自烷基、芳基、杂烷基、杂芳基以及它们的组合；和/或每个所述X独立地选自卤素、烷氧基、羟基以及它们的组合。

7.根据权利要求4-6中任一项所述的方法，其中每个所述R独立地选自烷基、芳基、杂烷基以及它们的组合；每个所述X独立地选自烷氧基、羟基以及它们的组合；和/或所述p为整数3。

8.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述有机硅烷化合物选自烷基三烷氧基硅烷、芳基三烷氧基硅烷、杂烷基三烷氧基硅烷以及它们的组合。

9.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中除有机硅烷之外，所述陶瓷前体组合物还包括至少一种陶瓷前体化合物。

10.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述有机-无机杂化粒子为有机改性的二氧化硅粒子。

11.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述光敏材料选自光敏药物、染料、掺杂稀土的金属氧化物纳米粒子、金属纳米粒子、半导体纳米粒子以及它们的组合。

12.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述光敏材料选自光敏染料以及它们的组合。

13.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述光敏材料选自光致变色染料、荧光染料以及它们的组合。

14.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述水解和所述缩合通过将所述陶瓷前体组合物与包含至少一种催化剂的水性组合物混合来实现。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述催化剂选自碱、酸、它们的缓冲溶液以及它们的组合。

16.根据权利要求14或权利要求15所述的方法，其中所述催化剂选自碱以及它们的组合。

17.根据权利要求14-16中任一项所述的方法，其中所述水性组合物还包含至少一种表面活性剂。

18.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述有机-无机杂化粒子为有机-无机杂化纳米粒子。

19.根据权利要求1或前述权利要求中任何其它项所述的方法，其中所述方法在不存在有机溶剂的情况下实施。

20.一种用于制备光响应性有机-无机杂化粒子的方法，包括：

(a)将(1)至少一种纯的有机硅烷化合物，所述有机硅烷化合物包含至少两个硅键合的可水解基团，和(2)至少一种纯的光敏染料混合，以形成纯的陶瓷前体组合物；以及

(b)通过在不存在有机溶剂的情况下，将所述纯的陶瓷前体组合物与包含至少一种碱和任选地至少一种表面活性剂的水性组合物混合，允许或引起所述可水解基团的水解和所述有机硅烷化合物的缩合，以形成包含所述光敏染料的有机改性的二氧化硅纳米粒子。