[发明专利]用于有机半导体器件的二酮基吡咯并吡咯低聚物有效
| 申请号: | 201280030124.3 | 申请日: | 2012-06-20 |
| 公开(公告)号: | CN103619855B | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
| 发明(设计)人: | P·哈约兹;N·舍博塔莱瓦 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号: | C07D519/00 | 分类号: | C07D519/00;C08G61/12;H01B1/12;H01L51/00 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 张振军,刘金辉 |
| 地址: | 德国路*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 有机 半导体器件 二酮基 吡咯 低聚物 | ||
1.一种式化合物,其中
p为0或1,q为0或1,
A1和A2相互独立地为式的基团,其中
a为1,b为0或1,c为0或1,
Ar1为下式基团:
Ar2和Ar3相互独立地为下式基团:
R3为氢或C1-C25烷基,
A3、A4和A5相互独立地为式的基团,
k为0、1或2;l为1、2或3;r为0或1;z为0、1或2;其中k+l+r+z为1或3;
Ar4、Ar5、Ar6和Ar7相互独立地为下式基团:
R10为氢、C1-C25烷基或COO-C1-C25烷基,
R16和R17相互独立地为氢、卤素、C1-C25烷基、C1-C25烷氧基、C7-C25芳基烷基或
Rx为C1-C12烷基或三(C1-C8烷基)甲硅烷基,
R20和R21相互独立地为氢或C1-C25烷基,
R30-R35相互独立地为氢或C1-C25烷基,和
R42和R43相互独立地为C1-C25烷基,
R1、R2、R1’、R2’、R1”、R2”、R1*和R2*可相同或不同且选自C1-C50烷基,条件为如果q为0,p为0,k为0,r为0,z为0和l为1,则Ar5不为基团
2.根据权利要求1的化合物,其为下式化合物:
其中A1、A2、A3、A4、A5、R1、R2、R1’、R2’、R1”、R2”、R1*和R2*如权利要求1所定义。
3.根据权利要求1的化合物,其中
A1和A2相互独立地为式的基团,其中
a为1,b为0或1,c为0或1,
Ar2和Ar3相互独立地为和
R3为H或C1-C25烷基。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴斯夫欧洲公司,未经巴斯夫欧洲公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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