[发明专利]用于有机半导体器件的二酮基吡咯并吡咯低聚物有效

专利信息
申请号: 201280030124.3 申请日: 2012-06-20
公开(公告)号: CN103619855B 公开(公告)日: 2017-08-08
发明(设计)人: P·哈约兹;N·舍博塔莱瓦 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司
主分类号: C07D519/00 分类号: C07D519/00;C08G61/12;H01B1/12;H01L51/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 张振军,刘金辉
地址: 德国路*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 有机 半导体器件 二酮基 吡咯 低聚物
【权利要求书】:

1.一种式化合物,其中

p为0或1,q为0或1,

A1和A2相互独立地为式的基团,其中

a为1,b为0或1,c为0或1,

Ar1为下式基团:

Ar2和Ar3相互独立地为下式基团:

R3为氢或C1-C25烷基,

A3、A4和A5相互独立地为式的基团,

k为0、1或2;l为1、2或3;r为0或1;z为0、1或2;其中k+l+r+z为1或3;

Ar4、Ar5、Ar6和Ar7相互独立地为下式基团:

R10为氢、C1-C25烷基或COO-C1-C25烷基,

R16和R17相互独立地为氢、卤素、C1-C25烷基、C1-C25烷氧基、C7-C25芳基烷基或

Rx为C1-C12烷基或三(C1-C8烷基)甲硅烷基,

R20和R21相互独立地为氢或C1-C25烷基,

R30-R35相互独立地为氢或C1-C25烷基,和

R42和R43相互独立地为C1-C25烷基,

R1、R2、R1’、R2’、R1”、R2”、R1*和R2*可相同或不同且选自C1-C50烷基,条件为如果q为0,p为0,k为0,r为0,z为0和l为1,则Ar5不为基团

2.根据权利要求1的化合物,其为下式化合物:

其中A1、A2、A3、A4、A5、R1、R2、R1’、R2’、R1”、R2”、R1*和R2*如权利要求1所定义。

3.根据权利要求1的化合物,其中

A1和A2相互独立地为式的基团,其中

a为1,b为0或1,c为0或1,

Ar2和Ar3相互独立地为和

R3为H或C1-C25烷基。

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