[发明专利]一种用于放射性同位素生产系统的靶设备

权利要求书

1.一种用于放射性同位素生产系统的靶设备，所述靶设备包括：

生产室，所述生产室配置成容纳启动液体，所述生产室配置成接纳入射到所述启动液体上的粒子束，从而产生放射性同位素并将所述启动液体的一部分转换成蒸汽；

冷凝室；以及

流体通道，所述流体通道将所述生产室与所述冷凝室流体连通，并且配置成允许所述蒸汽从所述生产室流动到所述冷凝室，所述冷凝室配置成将所述蒸汽转换成冷凝液体。

2.根据权利要求1所述的靶设备，其中所述冷凝室和所述流体通道可以相对于彼此设置大小和形状，以便进入所述冷凝室的所述蒸汽膨胀，从而减小所述蒸汽的压力并促进所述蒸汽转换成所述冷凝液体。

3.根据权利要求1所述的靶设备，其中所述冷凝室和流体通道具有相应的内表面，所述冷凝室的所述内表面配置成使其表面温度小于所述流体通道的所述内表面的表面温度，从而促进所述蒸汽转换成所述冷凝液体。

4.根据权利要求1所述的靶设备，其中所述生产室、所述冷凝室和所述流体通道相对于彼此设置，以便当所述流体通道具有相对于重力的预定定向时，所述蒸汽经由所述流体通道流入所述冷凝室中。

5.根据权利要求1所述的靶设备，进一步包括靶外壳，所述冷凝室设置在所述靶外壳中，其中所述靶外壳包括位于所述冷凝室附近的至少一个通道，所述至少一个通道配置成允许工作流体流动经过其中以吸收热能并从所述冷凝室排除所述热能，从而主动地冷却所述冷凝室。

6.根据权利要求1所述的靶设备，其中所述生产室和冷凝室至少部分由靶体限定，所述靶体具有延伸在所述生产室与所述冷凝室之间的主体材料，所述靶体配置成减少从所述生产室到所述冷凝室的热能传输。

7.根据权利要求1所述的靶设备，进一步包括气体管线，所述气体管线直接连接到所述冷凝室。

8.根据权利要求5所述的靶设备，其中所述冷凝室具有第一端口和第二端口，所述第一端口和第二端口分别与所述生产室和所述气体管线流体连通，所述第一端口和第二端口之间具有间距，所述间距配置成防止在所述第二端口中形成流体或防止流体进入所述第二端口中。

9.根据权利要求1所述的靶设备，其中所述生产室、所述流体通道和所述冷凝室中的每一者都设置在公共靶外壳中。

10.一种同位素生产系统，包括：

粒子加速器，所述粒子加速器配置成产生粒子束；以及

靶设备，所述靶设备具有窗口，所述窗口配置成接纳粒子束并且隔开生产室和冷凝室，所述生产室配置成容纳启动液体并且定位成使所述粒子束入射到所述启动液体上，从而产生放射性同位素，并且将所述启动液体的一部分转换成蒸汽，所述靶设备还包括流体通道，所述流体通道延伸在所述生产室与所述冷凝室之间并且将这两者流体连通；

其中所述流体通道配置成允许所述蒸汽从所述生产室流动到所述冷凝室中，所述冷凝室配置成将所述冷凝室中的所述蒸汽转换成冷凝液体。

11.根据权利要求10所述的同位素生产系统，其中所述冷凝室和所述流体通道可以相对于彼此设置大小和形状，以便进入所述冷凝室的所述蒸汽膨胀，从而减小所述蒸汽的压力并促进所述蒸汽转换成所述冷凝液体。

12.根据权利要求10所述的同位素生产系统，其中所述冷凝室和流体通道具有相应的内表面，所述冷凝室的所述内表面的表面温度小于所述流体通道的所述内表面的表面温度，从而促进所述蒸汽转换成所述冷凝液体。

13.根据权利要求10所述的同位素生产系统，其中所述靶设备包括靶外壳，并且其中所述生产室、所述流体通道和所述冷凝室设置在所述靶外壳中。

14.根据权利要求10所述的同位素生产系统，其中所述生产室、所述冷凝室和所述流体通道相对于彼此设置，以便当所述流体通道具有相对于重力的预定定向时，所述蒸汽经由所述流体通道流入所述冷凝室中。

15.根据权利要求10所述的同位素生产系统，进一步包括气体管线，所述气体管线直接连接到所述冷凝室。

16.根据权利要求10所述的同位素生产系统，其中所述流体通道在所述生产室与所述冷凝室之间延伸一定距离，所述距离小于25毫米。