[发明专利]阳极氧化装置、连续阳极氧化装置以及成膜方法无效

专利信息
申请号: 201280029287.X 申请日: 2012-06-13
公开(公告)号: CN103608492A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 祐谷重徳;佐藤圭吾;垣内良蔵 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C25D11/00 分类号: C25D11/00;C25D17/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 阳极 氧化 装置 连续 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种阳极氧化装置,其特征在于包括:

电源滚筒,其紧密接触由可阳极氧化金属制成的带状物或由至少一个表面包括可阳极氧化金属的复合导电金属箔制成的带状物,且因此在所述带状物正缠绕在所述电源滚筒周围的状态中支撑所述带状物,且其中紧密接触所述带状物的至少一部分由导电材料构成;

相对电极,其朝向所述电源滚筒安置;

电解槽,其由电解溶液填充,所述电源滚筒的紧密接触且支撑所述带状物的一部分和所述相对电极浸渍到所述电解溶液中;

保护部件,其由非导电材料制成,且与同所述带状物紧密接触的所述电源滚筒支撑的所述带状物的短长度方向上的端部以及所述电源滚筒的不与所述带状物紧密接触的部分重叠,以便保护所述部分不受所述电解溶液影响;以及

驱动单元,其致使与所述电源滚筒紧密接触的所述带状物和所述保护部件与所述电源滚筒的圆周速度同步在所述电解溶液中一起运行,

其中施加到缠绕在所述电源滚筒周围的所述带状物的每宽度张力由T(N/m)表示且所述电源滚筒的半径由R(m)表示,那么施加到所述带状物的致使在所述电解溶液中一起运行的每宽度张力T的值为1,000×R或更大。

2.根据权利要求1所述的阳极氧化装置,其特征在于:

将具有从1,000×R到10,000×R范围内的值的每宽度张力T(N/m)施加到所述带状物。

3.根据权利要求1或2所述的阳极氧化装置,其特征在于:

在所述电源滚筒中,与所述带状物紧密接触的所述部分的表面由电子导电无机化合物构成。

4.根据权利要求3所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述电子导电无机化合物为碳或石墨、氧化铱、氮化钛、碳化钛、碳氮化钛、氮化硅、碳化硅和碳氮化硅中的至少一种。

5.根据权利要求3或4所述的阳极氧化装置,其特征在于:

在所述电源滚筒中,紧密接触所述带状物的所述部分的所述表面的底层由金属构成,且所述底层的所述金属为可阳极氧化金属。

6.根据权利要求5所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述可阳极氧化金属为铝。

7.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的阳极氧化装置,其特征在于进一步包括循环构件,所述循环构件适于移动所述相对电极与所述带状物之间的间隙中存在的所述电解溶液,所述带状物在所述间隙外由与所述带状物紧密接触的所述电源滚筒支撑。

8.根据权利要求7所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述循环构件在与所述带状物的纵向方向近似平行的方向上移动所述间隙中存在的所述电解溶液。

9.根据权利要求7或8所述的阳极氧化装置,其特征在于:

开口部分安置在所述相对电极中,且

所述循环构件经由所述开口部分将所述电解溶液供应到所述相对电极与所述带状物之间的所述间隙,所述带状物由与所述带状物紧密接触的所述电源滚筒支撑。

10.根据权利要求7到9中任一权利要求所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述循环构件在与所述带状物的所述纵向方向近似平行的方向上对所述间隙中的所述电解溶液进行排放。

11.根据权利要求7到10中任一权利要求所述的阳极氧化装置,其特征在于进一步包括在所述电源滚筒的旋转轴的方向上阻挡所述间隙的开口中的第二开口的覆盖部件,

其中通过所述循环构件,所述间隙中的所述电解溶液在与所述带状物的所述纵向方向近似平行的方向上从所述间隙中的第一开口排放。

12.根据权利要求11所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述覆盖部件固定到所述电解槽或所述相对电极。

13.根据权利要求11所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述覆盖部件固定到所述电源滚筒的所述旋转轴或是相对可旋转的。

14.根据权利要求1到13中任一权利要求所述的阳极氧化装置,其特征在于进一步包括安置在所述电解溶液的液面以上的位置中且将电流施加到所述带状物的电源构件。

15.根据权利要求14所述的阳极氧化装置,其特征在于:

所述电源构件具有与所述电源滚筒的金属部分接触的第一电源部件。

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