[发明专利]利用硬质膜被覆而成的硬质膜被覆构件及其制造方法有效
| 申请号： | 201280028480.1 | 申请日： | 2012-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103597118B | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 涩泽邦彦 | 申请（专利权）人： | 太阳诱电化学科技株式会社 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;B32B15/04;C23C16/26;C23C18/32;C25D5/30;C25D7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 利用 质膜 被覆 构件 及其 制造 方法 | ||
1.一种硬质膜被覆构件，其具备：
包含软质金属的基材、
形成于所述基材上的非晶状的化学镀镍层、和
形成于所述化学镀镍层上的硬质膜。
2.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，所述化学镀镍层为化学镀Ni-P层。
3.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，所述化学镀镍层为化学镀Ni-B层。
4.根据权利要求2所述的硬质膜被覆构件，其中，所述化学镀Ni-P层中的磷的含量为8wt％以上。
5.根据权利要求3所述的硬质膜被覆构件，其中，所述化学镀Ni-B层中的硼的含量为3wt％以上。
6.根据权利要求2所述的硬质膜被覆构件，其中，所述硬质膜以使所述化学镀Ni-P层保持在低于260℃的温度的方式进行成膜。
7.根据权利要求3所述的硬质膜被覆构件，其中，所述硬质膜以使所述化学镀Ni-B层保持在低于300℃的温度的方式进行成膜。
8.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，所述基材包含铝或铝合金。
9.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，所述硬质膜由选自非晶质碳膜、或含有Si的非晶质碳膜、Ti、AlN、TiCN、TiC、TiN、TiAlN、CrC、CrN、SiC和SiOX中的1种以上的硬质膜原材料形成。
10.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，在所述基材和所述化学镀镍层之间形成有锌置换层。
11.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，在所述化学镀镍层和所述硬质膜之间形成有电解镀镍层。
12.根据权利要求1所述的硬质膜被覆构件，其中，在所述化学镀镍层上形成中间粘接层，在该中间粘接层上形成所述硬质膜。
13.一种硬质膜被覆构件的制作方法，其包括：
准备包含软质金属的基材的工序；
在所述基材上形成非晶状的化学镀镍层的工序；以及
在所述化学镀镍层上形成硬质膜的工序。
14.根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述化学镀镍层为化学镀Ni-P层。
15.根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述化学镀镍层为化学镀Ni-B层。
16.根据权利要求14所述的制作方法，其中，所述化学镀Ni-P层中的磷的含量为8wt％以上。
17.根据权利要求15所述的制作方法，其中，所述化学镀Ni-B层中的硼的含量为3wt％以上。
18.根据权利要求14所述的制作方法，其中，所述硬质膜以使所述化学镀Ni-P层保持在低于260℃的温度的方式进行成膜。
19.根据权利要求15所述的制作方法，其中，所述硬质膜以使所述化学镀Ni-B层保持在低于300℃的温度的方式进行成膜。
20.根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述基材包含铝或铝合金。
21.根据权利要求13所述的制作方法，其中，所述硬质膜由选自类金刚石碳、含硅的类金刚石碳、TiAlN、TiCN、TiC、TiN、CrC、CrN、SiC及SiOX中的1种以上的硬质膜原材料形成。
22.根据权利要求13所述的制作方法，其还具有在所述基材上形成锌置换层的工序，所述化学镀镍层形成于所述锌置换层的表面。
23.根据权利要求13所述的制作方法，其还具有在所述化学镀镍层上形成电解镀镍层的工序，所述硬质膜形成于所述电解镀镍层的表面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太阳诱电化学科技株式会社，未经太阳诱电化学科技株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280028480.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种托料装置
- 下一篇：移动电子签名方法、服务平台、设备和系统
- 同类专利
- 专利分类
