[发明专利]研磨用组合物和研磨方法

权利要求书

1.一种研磨用组合物，其特征在于，其含有在水溶液中与氧化剂的共存下使pH降低的物质和pH缓冲剂，相对于100g研磨用组合物刚添加31重量%的过氧化氢水溶液5.16g后的研磨用组合物的pH与添加过氧化氢水溶液后静置8天后的研磨用组合物的pH之差以绝对值计为0.5以下。

2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述pH缓冲剂为具有酰胺基的化合物。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的研磨用组合物，其中，所述pH缓冲剂为具有磺基和羧基的至少一者的两性氨基酸。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其中，所述pH缓冲剂为下述的通式（1）所示的化合物，在通式（1）中，R₁和R₃各自独立地表示碳原子数为1～4的未取代或取代的直链烷基，R₂表示氢原子、羟基、磺基、羧基、氨基、酰胺基、氨甲酰基、硝基、甲氧基、乙氧基、卤素基团、苯基、乙酰基、碳原子数为1～4的未取代或取代烷基的任一种，X表示磺基、羧基和它们的盐的任一种，

5.根据权利要求4所述的研磨用组合物，其中，所述通式（1）中，X为磺基或其盐。

6.一种研磨用组合物，其特征在于，其含有在水溶液中与氧化剂的共存下使pH降低的物质和pH控制剂，与相对于100ml研磨用组合物刚添加31重量%的过氧化氢水溶液5.16g后的研磨用组合物中的碱性物质的量相比，添加过氧化氢水溶液后静置8天后的研磨用组合物中的碱性物质的量增加0.1mM以上。

7.根据权利要求6所述的研磨用组合物，其中，相对于100ml所述研磨用组合物刚添加31重量%的过氧化氢水溶液5.16g后的研磨用组合物的pH与添加过氧化氢水溶液后静置8天后的研磨用组合物的pH之差以绝对值计为0.5以下。

8.根据权利要求6或7所述的研磨用组合物，其中，所述碱性化合物为氨。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的研磨用组合物，其中，与在100ml包含5.0mM所述pH控制剂的水溶液中刚添加31重量%的过氧化氢水溶液10.32g后的水溶液中的碱性物质的量相比，添加过氧化氢水溶液后静置8天后的水溶液中的碱性物质的量增加0.2mM以上。

10.根据权利要求6～9中任一项所述的研磨用组合物，其中，所述pH控制剂为具有酰胺基的化合物。

11.根据权利要求6～10中任一项所述的研磨用组合物，其中，所述pH控制剂为具有磺基和羧基的至少一者的两性氨基酸。

12.根据权利要求6～11中任一项所述的研磨用组合物，其中，所述pH控制剂为下述的通式（2）所示的化合物，通式（2）中，R₁和R₃各自独立地表示碳原子数为1～4的未取代或取代的直链烷基，R₂表示氢原子、羟基、磺基、膦基、羧基、氨基、酰胺基、氨甲酰基、硝基、甲氧基、乙氧基、卤素基团、苯基、乙酰基、酰基、碳原子数为1～4的未取代或取代烷基的任一种、X表示磺基、羧基和它们的盐的任一种，

13.根据权利要求12所述的研磨用组合物，其中，所述通式（2）中，X为磺基或其盐。

14.一种利用权利要求1～13中任一项所述的研磨用组合物来研磨金属的方法。

15.根据权利要求14所述的研磨方法，其特征在于，在研磨时向研磨用组合物中混合氧化剂。

16.一种包含金属的基板的制造方法，其具有用权利要求14或权利要求15所述的方法研磨金属的工序。