[发明专利]具有改进的等离子喷嘴的等离子体喷枪系统

权利要求书

1.一种等离子体喷枪的喷嘴，包括：

主体，其包括第一端、第二端，以及从所述第一端延伸至所述第二端的通道，所述第二端具有布置于其中的出口孔，所述通道配置成使得等离子气流从所述第一端，穿过所述通道至所述出口孔；并且

其中，大于或等于大约50％的所述主体总质量相对于所述主体的纵向长度分布于所述第二端部与所述主体的中间点之间。

2.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述主体包括金属材料。

3.根据权利要求2所述的喷嘴，其中，所述金属材料包括铜。

4.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述通道包括具有第一直径的第一部分与具有小于所述第一直径的第二直径的第二部分，并且其中，所述第一部分与所述第二部分经由阶梯式部分连接。

5.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述主体包括具有阶梯式直径的环形内壁。

6.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述主体包括靠近所述第一端的第一部分，靠近所述第二端的第二部分，以及在所述第一部分与所述第二部分之间延伸，并且经由基本上垂直的台阶连接至所述第一部分，经由带角度的台阶连接至所述第二部分的中间部分。

7.根据权利要求6所述的喷嘴，其中，大于或等于大约25％的所述主体总质量贯穿所述第二部分分布。

8.一种等离子体喷枪的喷嘴，包括：

主体，其包括第一端与第二端，所述第二端具有布置于其中的等离子气体出口孔，其中，从所述主体的所述第一端至质量中心的纵向距离大于或等于大约43％的所述主体的纵向长度。

9.根据权利要求8所述的喷嘴，其中，从所述主体的所述第一端至质量中心的所述纵向距离大于或等于大约48％的所述主体的纵向长度。

10.根据权利要求8所述的喷嘴，其中，所述主体包括铜。

11.一种等离子体喷枪的喷嘴，包括：

主体，其包括第一端以及第二端，所述第二端具有布置于其中的等离子气体出口孔，其中，从所述主体的所述第一端至质量中心的纵向距离大于或等于大约48％的所述主体的纵向长度。

12.根据权利要求11所述的喷嘴，其中，所述主体包括靠近所述第一端的第一部分，靠近所述第二端的孔部分，以及在所述第一部分与所述孔部分之间延伸的中间部分，并且其中，所述孔部分的平均壁厚与所述孔部分的内径的比率大于或等于大约3.6。

13.根据权利要求12所述的喷嘴，其中，所述中间部分的平均壁厚与所述中间部分的内径的比率大于或等于大约0.27。

14.一种等离子体喷枪的喷嘴，包括：

主体，其包括第一端，第二端，从所述第一端沿所述主体的纵向长度延伸的第一部分，从所述第二端沿所述主体的纵向长度延伸的孔部分，以及布置于所述第一部分与所述孔部分之间的中间部分，所述第二端具有布置于其中的等离子气体出口孔；

其中，通过由所述孔部分的内径分开的所述孔部分的平均壁厚限定的开孔率大于或等于大约3.6，并且通过由所述中间部分的内径分开的所述中间部分的平均壁厚限定的中间部分比率大于或等于大约0.27。

15.根据权利要求14所述的喷嘴，其中，所述孔部分包括环形锥形边缘。

16.根据权利要求14所述的喷嘴，其中，从所述主体的所述第一端至质量中心的纵向距离大于或等于大约48％的所述主体的所述纵向长度。

17.一种等离子体喷枪的喷嘴，包括：

主体，其包括第一端，第二端，从所述第二端沿所述主体的纵向长度延伸的孔部分，从所述第一端沿所述主体的纵向长度延伸的第二部分，所述第二端具有布置于其中的等离子气体出口孔；

其中，通过由所述孔部分的内径分开的所述孔部分的平均壁厚限定的开孔率大于或等于大约3.5。

18.根据权利要求17所述的喷嘴，其中，所述主体包括铜。