[发明专利]聚酰亚胺膜无效

专利信息
申请号: 201280024958.3 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN103561953A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 加峯哲治;上木户健 申请(专利权)人: 宇部兴产株式会社
主分类号: B32B27/34 分类号: B32B27/34;B32B27/20;C08J7/04
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本山口*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 聚酰亚胺
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种电绝缘性优异、且光泽度低、可设计性也优异的聚酰亚胺膜。

背景技术

聚酰亚胺膜在耐热性、尺寸稳定性、机械强度、电特性(电绝缘性)等方面优异,并且具有柔软性,因此在电领域、电子设备领域、半导体领域等领域中,广泛地被用作例如电子部件的基板等。

例如,在专利文献1中公开了一种聚酰亚胺膜,该聚酰亚胺膜可作为电材料、电子材料使用,尤其是能够改良利用粘合剂将其与铜箔等金属箔叠层时的粘合性,其中,在高刚性和低线膨胀系数的聚酰亚胺的核心层的至少一个面上具有将涂布层加热而形成的薄层,所述涂布层含有耐热性表面处理剂和用于形成高耐热性且非晶性的聚酰亚胺的聚酰亚胺前体。

另外,聚酰亚胺膜还可以叠层粘合剂,从而将其作为用于保护配线的覆盖层等进行使用。例如,在专利文献2中公开了一种覆盖层,其是通过在聚酰亚胺膜的单面上形成粘合剂层而得到的,所述聚酰亚胺膜以对苯二胺以及4,4’-二氨基二苯醚、均苯四甲酸二酐以及3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐为主要组分,并且在膜中以单位膜树脂重量0.1~0.9重量%的比例分散有以无机颗粒为主体的粉体。

进一步,已知一种含有碳黑的聚酰亚胺膜。另外,作为适于聚酰亚胺等高分子合成有机材料或天然高分子有机材料、无机材料的着色的黑色有机颜料,在专利文献3中提出了一种二萘嵌苯颜料。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2005-272520号公报

专利文献2:日本特开2009-021351号公报

专利文献3:日本特开2007-522297号公报

专利文献4:日本特开平3-180343号公报

发明内容

但是,碳黑具有导电性,因此上述含有碳黑的聚酰亚胺膜存在电绝缘性、电可靠性差这样的问题。另一方面,聚酰亚胺膜的表面平滑,因此光泽度高,难以说是可设计性优异。

本发明的目的在于提供一种电绝缘性、电可靠性优异、且可设计性也优异的聚酰亚胺膜。

本发明涉及以下各项。

(1)一种聚酰亚胺膜,该聚酰亚胺膜在聚酰亚胺层(A)的单面或双面上具有聚酰亚胺层(B),其特征在于,

聚酰亚胺层(A)含有黑色有机颜料,

聚酰亚胺层(B)含有平均粒径为2μm以上的无机或有机填料。

(2)根据上述(1)所述的聚酰亚胺膜,其特征在于所述填料的平均粒径为2~3μm。

(3)根据上述(1)或(2)所述的聚酰亚胺膜,其特征在于相对于100质量份的聚酰亚胺,所述填料在聚酰亚胺层(B)中的含量为15~40质量份。

(4)根据上述(1)~(3)任一项所述的聚酰亚胺膜,其特征在于所述填料为多孔性二氧化硅填料。

(5)根据上述(1)~(4)任一项所述的聚酰亚胺膜,其特征在于所述黑色有机颜料为二萘嵌苯系颜料。

(6)根据上述(1)~(5)任一项所述的聚酰亚胺膜,其特征在于光泽度为50以下,透过率为0.5%以下,绝缘击穿电压为200kV·mm-1以上。

(7)根据上述(1)~(6)任一项所述的聚酰亚胺膜,其特征在于所述聚酰亚胺层(B)的厚度为0.4~1.5μm。

(8)根据上述(1)~(7)任一项所述的聚酰亚胺膜,其特征在于所述聚酰亚胺层(A)的厚度为8~35μm。

(9)根据上述(1)~(8)任一项所述的聚酰亚胺膜,其中,相对于100质量份的聚酰亚胺,所述黑色有机颜料在聚酰亚胺层(A)中的含量为1~10质量份。

(10)根据上述(4)所述的聚酰亚胺膜,其中,所述多孔性二氧化硅填料的根据JIS-K5101测定得到的吸油量为100~500ml/100g。

(11)一种聚酰亚胺膜的制造方法,其包含以下工序:

将聚酰胺酸溶液(A)和黑色有机颜料进行混合而得到聚酰亚胺前体溶液组合物(A)的工序;

将聚酰胺酸溶液(B)和平均粒径为2μm以上的无机或有机填料进行混合而得到聚酰亚胺前体溶液组合物(B)的工序;

将所述聚酰亚胺前体溶液组合物(A)流延至支撑体上并进行加热而得到自支撑膜的工序;

将聚酰亚胺前体溶液组合物(B)涂布于所述自支撑膜的单面或双面上的工序;以及

将涂布有聚酰亚胺前体溶液组合物(B)的自支撑膜进行加热的工序。

发明效果

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇部兴产株式会社,未经宇部兴产株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280024958.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top