[发明专利]包括使用净化物质的环境控制的净化系统

权利要求书

1..一种用于净化医疗装置的系统，该系统包括：

净化腔室，其构造成保留所述医疗装置；

化学品分散组件，其构造成将净化流体传送到所述净化腔室；

压力控制组件，其连接至所述净化腔室并构造成控制所述净化腔室中的压力；和

系统控制器，其构造成控制所述净化腔室、所述化学品分散组件和所述压力控制组件以：

在第一排空步骤中将所述净化腔室中的压力降低到亚大气压范围内；

以第一比例将所述净化流体添加到所述净化腔室中，同时增加所述净化腔室中的压力，其中添加所述净化流体使所述净化腔室中的相对湿度增加到提高所述净化流体的功效的等级；

以高于所述第一比例的第二比例将所述净化流体添加到所述净化腔室中，同时将所述净化腔室中的压力增加到保持压力范围内；

保持所述净化腔室中的所述净化流体在所述保持压力范围内维持一定的保持时间；

在第二排空步骤中，在所述保持时间之后将所述净化腔室中的压力降低到亚大气压范围内；和

将所述净化腔室通气到大气压。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述化学品分散组件利用加压空气添加所述净化流体，并且其中，所述加压空气增加所述净化腔室中的压力。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，在以所述第一比例添加所述净化流体之后，所述净化腔室中的相对湿度在约50%和约90%之间。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述化学品分散组件包括：

与所述净化腔室流体连通的雾化组件。

5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述雾化组件包括：

雾化喷嘴；

化学品流控制系统，其与所述雾化喷嘴和净化流体源流体连通；和空气流控制系统，其可操作地连接至所述雾化喷嘴，

其中，所述化学品流控制系统构造成将所述净化流体从所述净化流体源传送到所述雾化喷嘴，并且其中所述空气流控制系统构造成迫使所述净化流体通过所述雾化喷嘴。

6.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括：

中和过滤器组件，其联接至所述净化腔室以便所述净化腔室中的净化流体在所述第二排空步骤期间通过所述中和过滤器组件。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述中和过滤器组件包括：

第一过滤器，其构造成中和所述净化流体的第一成分；和

第二过滤器，其与所述第一过滤器串联连接并且构造成中和所述净化流体的第二成分。

8.根据权利要求7所述的系统，其中，所述第一过滤器由高锰酸钾组成，并且所述第二过滤器由碳酸氢钠组成。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述中和过滤器组件进一步包括：

在所述第一过滤器和所述第二过滤器之间的第三过滤器，所述第三过滤器构造成移除由所述第一过滤器产生的微粒材料。

10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述净化流体包括过氧化氢、过乙酸和/或乙酸。

11.根据权利要求1所述的系统，其中，将所述医疗装置预先处理到环境温度，并且其中，在所述第一排空步骤之前，将所述净化腔室中的所述相对湿度预先处理到低于约50%。

12.一种用于对净化腔室中的医疗装置进行净化的方法，该方法包括：

在第一排空步骤中将所述净化腔室中的压力降低到亚大气压范围内；

以第一比例将净化流体添加到所述净化腔室中，同时增加所述净化腔室中的压力，其中添加所述净化流体使所述净化腔室中的相对湿度增加到提高所述净化流体的功效的等级；

以高于所述第一比例的第二比例将所述净化流体添加到所述净化腔室中，同时将所述净化腔室中的压力增加到保持压力范围内；

保持所述净化腔室中的所述净化流体在所述保持压力范围内维持一定的保持时间；和

在第二次排空步骤中，将所述净化腔室中的压力降低到亚大气压范围内；和

将所述净化腔室通气到大气压。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，在以所述第一比例添加所述净化流体之后，所述净化腔室中的所述相对湿度在约50%和约90%之间。