[发明专利]半胺缩醛化合物的制造方法及氰基胺化合物的制造方法无效
| 申请号： | 201280024711.1 | 申请日： | 2012-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN103562181A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 岛崎泰治;王维奇 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C07D209/52 | 分类号： | C07D209/52;C07D207/16;C07D211/60;C07D223/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王彦慧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半胺缩醛 化合物 制造 方法 氰基胺 | ||
1.一种式(1)所示的半胺缩醛化合物或其盐的制造方法，包括下述工序A，
所述工序A是在碱的存在下，使式(2)所示的酰胺化合物与式(3)所示的还原剂进行反应的工序，
式中，环W表示可以具有取代基的杂环；R1及R2各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的脂肪族烃基、可以具有取代基的脂环式烃基或可以具有取代基的芳香族烃基；R3及R4各自独立地表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的脂肪族烃基、可以具有取代基的脂环式烃基、可以具有取代基的芳香族烃基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的氨基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷硫基或可以具有取代基的芳硫基，
式中，R1～R4各自表示与上述相同的意思，
式(3)：(Ms+)l/sH4-mAl-(OR5)m
式中，R5表示可以具有取代基的烷基；Ms+表示金属离子；s表示金属离子的价数；m表示1、2或3。
2.一种式(4)所示的氰基胺化合物或其盐的制造方法，包括下述工序A及工序B，
所述工序A是在碱的存在下，使式(2)所示的酰胺化合物与式(3)所示的还原剂进行反应的工序，
所述工序B是使工序A中获得的式(1)所示的半胺缩醛化合物或其盐与氰化剂进行反应的工序，
式中，环W表示可以具有取代基的杂环；R1及R2各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的脂肪族烃基、可以具有取代基的脂环式烃基或可以具有取代基的芳香族烃基；R3及R4各自独立地表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的脂肪族烃基、可以具有取代基的脂环式烃基、可以具有取代基的芳香族烃基、可以具有取代基的杂环基、可以具有取代基的氨基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷硫基或可以具有取代基的芳硫基，
式中，环W及R1～R4各自表示与上述相同的意思，
式(3)：(Ms+)l/sH4-mAl-(OR5)m
式中，R5表示可以具有取代基的烷基；Ms+表示金属离子；s表示金属离子的价数；m表示1、2或3，
式中，环W及R1～R4各自表示与上述相同的意思。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其中，
工序A中的式(3)所示的还原剂为下式所示的化合物，
式：(Ms+)l/sH4-mAl-[O-(CH2)n-OR6]m
式中，R6表示烷基或环烷基；n表示1、2、3或4；Ms+、s及m各自表示与上述相同的意思。
4.根据权利要求2所述的制造方法，其中，
工序A中的式(3)所示的还原剂为下式所示的化合物，
式：(Ms+)l/sH4-mAl-[O-(CH2)n-OR6]m
式中，R6表示烷基或环烷基；n表示1、2、3或4；Ms+、s及m各自表示与上述相同的意思。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其中，
工序A中的式(3)所示的还原剂为双(2-甲氧基乙氧基)氢化铝钠。
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