[发明专利]石墨烯薄膜制造装置及石墨烯薄膜制造方法有效

专利信息
申请号: 201280024034.3 申请日: 2012-03-14
公开(公告)号: CN103534206A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 尹钟赫 申请(专利权)人: 三星泰科威株式会社
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;B01J15/00;B01J19/18
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;金玉兰
地址: 韩国庆尚*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 石墨 薄膜 制造 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯薄膜制造装置,包括:

原料流体供应部,供应含碳的原料流体;

气体喷出部,从所述流体供应部得到所述原料流体的供应,并将所述原料流体热分解而以气体状态喷出;

催化剂基板,配置为与从所述气体喷出部喷出的气体相接触;

加热装置,配置为至少对与所述喷出的气体相接触的催化剂基板的区域进行局部加热。

2.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,还包括:

流体流量调节器,配置于所述原料流体供应部的一端,以用于调节从所述原料流体供应部供应到所述气体喷出部的流体的流量。

3.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述原料流体还包括惰性气体以及氢气。

4.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述气体喷出部具有:

储存部件,用于收容所述原料流体;

加热部件,配置于所述储存部件的外围而将所述原料流体热分解;

喷嘴部件,连接于所述储存部件而喷出热分解的气体。

5.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述气体喷出部形成为延伸状,以具有对应于所述催化剂基板的一个侧面宽度的宽度。

6.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,将所述加热装置配置为朝向所述催化剂基板的面当中与所述气体喷出部面对的面的相反面。

7.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述加热装置配置于所述气体喷出部与所述催化剂基板之间。

8.如权利要求7所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述加热装置配置于所述气体喷出部的一端。

9.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,还包括:

箱体,收容所述气体喷出部,并至少收容与所述喷出的气体相接触的所述催化剂基板的区域。

10.如权利要求9所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,还包括连接于所述箱体的排气装置。

11.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,以卷对卷方式供应所述催化剂基板。

12.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述气体喷出部在沿着一个方向移动的过程中喷出气体。

13.一种石墨烯薄膜制造方法,包括如下步骤:

得到含碳原料流体的供应,并将所述原料流体热分解而以气体状态喷出;

喷出的气体与催化剂基板接触而反应,

其中,所述喷出的气体与所述催化剂基板接触的步骤包括对与所述喷出的气体接触的催化剂基板的区域进行局部加热的步骤。

14.如权利要求13所述的石墨烯薄膜制造方法,其中,所述喷出的气体与催化剂基板接触而反应的步骤通过所述催化剂基板或所述气体喷出部的移动而连续地执行。

15.如权利要求1所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,还包括:

冷却部,配置为与所述气体喷出部分离,用于使与所述喷出的气体接触的催化剂基板的区域在经过预定时间后得到冷却。

16.如权利要求15所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述冷却部通过冷却气体的注入或冷却水的流动而执行冷却。

17.如权利要求15所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,以卷对卷方式供应所述催化剂基板,并将所述冷却部配置于所述催化剂基板的区域当中的、在以卷对卷方式移动所述催化剂基板时从所述气体喷出部逐渐远离的区域。

18.如权利要求17所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述冷却部具有用于驱动所述催化剂基板的滚轴,而所述滚轴中有冷却水流过。

19.如权利要求17所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,将所述冷却部配置为与所述气体喷出部错开,以使所述催化剂基板经过对应于所述气体喷出部的区域之后,弯折预定角度行进之后经过所述冷却部。

20.如权利要求15所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述气体喷出部做线性运动,所述冷却部至少被配置于所述气体喷出部的一侧而与所述气体喷出部一起运动。

21.如权利要求20所述的石墨烯薄膜制造装置,其中,所述冷却部与所述气体喷出部之间配置有用于隔热的隔壁。

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