[发明专利]用于在涡流层设备中连续地处理固体的装置

权利要求书

1.一种用于在具有圆形处理腔的涡流层设备中连续地处理固体的装置，所述涡流层设备具有固体输入口（5）、固体输出口（6）以及与所述处理腔（3、9）的内轮廓相匹配的入流底部（1），在所述入流底部（1）下方设置用于产生和保持涡流层的介质入口，其特征在于，在所述入流底部（1）上设置有分隔壁（2），该分隔壁（2）由所述处理腔（3、9）的内壁（10）径向向内伸入所述处理腔（3、9），一方面所述固体输入口（5）紧密地靠近所述分隔壁（2），另一方面所述固体输出口（6）紧密地靠近所述分隔壁（2）。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述分隔壁（2）一直伸入连接在所述处理腔（3、9）上方的膨胀腔中。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述处理腔（9）从所述固体输入口（5）一直延伸到所述固体输出口（6）的区域分成多个腔室（12），该多个腔室（12）相互连通。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，各个所述腔室（12）通过中间壁形成，所述中间壁沿径向伸入处理腔（9）中。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，各个所述中间壁构造成堰闸（11、13、14、15）。

6.根据权利要求2至5中任意一项所述的装置，其特征在于，所述腔室（12）、中间壁和/或堰闸（11、13、14）的高度等于或小于所述涡流层的高度。

7.根据权利要求2至5中任意一项所述的装置，其特征在于，所述腔室（12）、中间壁和/或堰闸（11、13、15）的高度明显大于所述涡流层的高度。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的装置，其特征在于，所述分隔壁（2）、中间壁和/或堰闸（11、13、14、15）的高度和/或方位角是可调的。

9.根据权利要求1至7中任意一项所述的装置，其特征在于，在所述入流底部（1）上沿所述处理腔（9）的轴线设置排压体（8），所述排压体（8）与所述分隔壁（2）连接。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，部分或所有的所述分隔壁和/或堰闸（11、13、14、15）与所述排压体（2）连接。