[发明专利]有机硅聚醚酰亚胺共聚物

权利要求书

1.具有改进的耐蒸汽性的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其包含：

聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物，它包含式（I）和式（II）的重复基团：

其中b为10至1,000，g为1至50，a为10至500，和R^1-6独立地选自具有5个至30个碳原子的取代或未取代、饱和、不饱和、或芳族单环或多环的基团，具有1个至30个碳原子的取代或未取代烷基，具有2个至30个碳原子的取代或未取代链烯基，或它们的组合，V是四价连接基，其选自具有5个至50个碳原子的取代或未取代、饱和、不饱和、或芳族单环或多环的基团，具有1个至30个碳原子的取代或未取代烷基，或它们的组合；和

0.1wt%至10wt%的选自多官能环氧化物、水滑石化合物、或其组合的化合物，其中所述多环氧化物的分子量为200道尔顿至18000道尔顿，所述水滑石化合物的粒度为1微米至50微米。

2.权利要求1的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中R^2-5是甲基，R¹和R⁶是具有3个至10个碳的亚烷基。

3.权利要求1-2任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺共聚物组合物，其包含式（VI）和式（VII）的重复单元：

其中T是-O-、或式-O-Z-O-的基团，其中-O-或-O-Z-O-基团的二价键在3,3'、3,4'、4,3'、或4,4'位置，其中Z是C6至C36芳基基团，b是10至1,000的整数；g为1至50的整数；a为10至500，和R^1-6独立地选自具有5个至30个碳原子的取代或未取代、芳族单环或多环的基团，具有1个至30个碳原子的取代或未取代烷基，或具有2个至30个碳原子的取代或未取代链烯基和

其中R⁷源自间-亚苯基二胺、对-亚苯基二胺、磺酰基二苯胺、氧联二苯胺、双(氨基苯氧基苯基)砜、亚甲基双苯胺、双氨基苯氧基苯、或它们的组合。

4.权利要求1-3任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述水滑石化合物是煅烧水滑石。

5.权利要求1-4任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述水滑石的氧化镁与氧化铝的摩尔比是约4.0至5.0。

6.权利要求1-5任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述水滑石的平均粒度是1微米至10微米。

7.权利要求1-6任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述水滑石具有少于约30ppm的如下所述的元素：所述元素选自汞、铅、镉、砷、铋或它们的组合。

8.权利要求1-7任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述多环氧化物是环己烷氧化物官能的多环氧化物。

9.权利要求1-8任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述多环氧化物是源自至少一种如下所述的单体的甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚物：所述单体选自C1-C6丙烯酸酯、C1-C6甲基丙烯酸酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、或丁二烯。

10.权利要求1-9任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述多环氧化物和所述水滑石化合物以组合形式使用，所述组合具有1%至99%的所述多环氧化物和99%至1%的所述水滑石化合物。

11.权利要求1-10任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述嵌段共聚物的残余溶剂量为小于或等于500重量份的溶剂，基于100万重量份的所述嵌段共聚物。

12.权利要求1-11任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中所述嵌段共聚物具有小于100重量份的卤素，基于100万重量份的所述嵌段共聚物，所述卤素选自溴、氯或它们的组合。

13.权利要求1-12任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中硅氧烷含量是10重量百分数至40重量百分数，基于所述嵌段共聚物的总重量。

14.权利要求1-13任一项的聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物组合物，其中水可提取的金属离子的量小于或等于1000重量份的金属离子，基于100万重量份的所述聚硅氧烷/聚酰亚胺嵌段共聚物。