[发明专利]基片处理装置

权利要求书

1.一种基片处理装置，所述基片处理装置包括：安装腔（1）；和用于基片（3）的曝光的光源，其中，所述光源被布置在所述安装腔（1）内并且包括至少一盏灯（5），所述灯（5）被布置在至少局部透光的壳体（4）中，所述壳体（4）具有用于容纳灯（5）的真空密封腔；以及至少一个反射器元件（6），所述反射器元件（6）具有电连接件，并且被布置成在空间上邻近所述至少一盏灯（5）。

2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于，所述壳体（4）包括至少一个管（41），所述管（41）由透光材料制成。

3.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于，所述壳体（4）包括互相平行布置的至少两个板（42）和连接所述板（42）的至少两个板条（43），至少一个板（42）由透光材料构成。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基片处理装置，其特征在于，所述壳体（4）延伸通过所述安装腔（1）的至少一个壁（11，15），并且在所述安装腔（1）的外侧上具有至少一个开口（44），通过所述开口（44）能够从所述安装腔（1）的外部进入所述壳体（4）的腔。

5.如权利要求4所述的基片处理装置，其特征在于，所述至少一个开口（44）被形成为冷却剂连接部。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的基片处理装置，其特征在于，所述光源包括布置在一个平面内的至少两个杆状灯（5），并且，所述反射器元件（6）包括布置在与上述一个平面平行的一个平面内的至少一个导电板或导电涂层板。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基片处理装置，其特征在于，所述反射器元件（6）是所述壳体（4）的部件。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的基片处理装置，其特征在于，所述反射器元件（6）是被涂敷到所述壳体（4）的部件上的金属层。