[发明专利]充电构件、处理盒、电子照相设备和充电构件的生产方法有效

专利信息
申请号: 201280020421.X 申请日: 2012-04-16
公开(公告)号: CN103502894A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 铃村典子;黑田纪明;儿玉真隆;友水雄也;益启贵 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/02 分类号: G03G15/02;C08G77/14;C08G79/00
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 充电 构件 处理 电子 照相 设备 生产 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及在电子照相设备中使用的充电构件和制造所述充电构件的方法、处理盒和电子照相图像形成设备。

背景技术

抵接电子照相感光构件以将电子照相感光构件充电的充电构件一般形成为具有含橡胶的弹性层,以便可以充分且均匀地确保电子照相感光构件和充电构件之间的抵接辊隙。

近年来,电子照相图像形成设备已开始要求额外的耐久性改进。为了实现所述改进,要求其充电构件长期发挥稳定的充电性能。作为即使在长期重复使用之后也能抑制调色剂或外部添加剂向其表面的固着并长期显示稳定的充电性能的充电构件,专利文献1提出包括含具有烷基氟基团和氧化烯基的聚硅氧烷的表面层的充电构件。

同时,伴随着近年来电子照相图像形成设备的处理速度的增加,电子照相感光构件和充电构件彼此接触的时间已开始变得相对较短。上述对稳定和可靠地将电子照相感光构件充电是不利的。具体而言,如在专利文献2中公开的,感光构件的带电均匀性降低,特别是抑制正重影的效果降低。

在通过充电构件对感光构件一次充电之前通过在感光构件上进行所谓的预曝光除去在转印步骤后的感光构件上的残余电荷可以消除正重影。然而,向电子照相图像形成设备中引入预曝光单元对降低电子照相图像形成设备的尺寸是不利的。因此,可以说,优选通过提高充电构件本身的充能能力来解决所述问题。

引文列表

专利文献

专利文献1:日本专利申请特开2007-004102

专利文献2:日本专利申请特开2008-299255

发明内容

发明要解决的问题

作为由本发明的发明人对根据专利文献1所述的充电构件进行研究的结果,本发明人认识到,虽然确实观察到调色剂等对充电构件表面附着的抑制效果,但是需要额外的技术开发以便即使在高处理速度下也可以以稳定的方式均匀地对感光构件充电。

鉴于上述情况,本发明的目的在于提供能够长期维持高充电能力的充电构件,通过所述充电构件即使在高处理速度下也可以稳定地对感光构件充电,并提供制造所述充电构件的方法。

另外,本发明的目的在于提供能够稳定地形成高品质电子照相图像的电子照相设备和处理盒。

用于解决问题的方案

根据本发明的一方面,提供电子照相设备用充电构件,其包括:导电性支承体;导电性弹性层;和表面层,其中:所述表面层包括在其分子结构中具有Si-O-Ti键的高分子化合物;并且所述高分子化合物具有由式(1)、(2)和(3)表示的构成单元:

式(1)

式(2)

TiO4/2

式(3)

在式(1)和(3)中,R1-1、R2-1、R1-2和R2-2各自独立地表示由下式(4)至(7)表示的结构的任一种,并且在式(3)中,Rα表示由下式(8)至(12)表示的结构的任一种:

式(4)

式(5)

式(6)

式(7)

在式(4)至(7)中:

R3至R7、R10至R14、R19、R20、R25和R26各自独立地表示氢原子、具有1个以上且4个以下碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基;

R8、R9、R15至R18、R23、R24和R29至R32各自独立地表示氢原子或具有1个以上且4个以下碳原子的烷基,R21、R22、R27和R28各自独立地表示氢原子、具有1个以上且4个以下碳原子的烷氧基或具有1个以上且4个以下碳原子的烷基;

n1、m1、q1、s1、t1和u1各自独立地表示1以上且8以下的整数,并且p1和r1各自独立地表示4以上且12以下的整数;

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