[发明专利]层叠体的制造方法无效
| 申请号: | 201280020385.7 | 申请日: | 2012-04-17 |
| 公开(公告)号: | CN103492182A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
| 发明(设计)人: | 木原直人;中尾卓也 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号: | B32B27/30 | 分类号: | B32B27/30;B32B9/00;H01L31/049 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯莉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 层叠 制造 方法 | ||
1.层叠体的制造方法,它是制造在含有氟树脂的基材板的至少单面上直接层叠有气体阻隔膜的层叠体的方法,其特征在于,
所述气体阻隔膜采用由选自氧、氮和碳的至少1种与硅或铝构成的无机化合物作为主成分;
通过频率为27.12MHz的高频等离子体化学蒸镀法在所述基材板上形成所述气体阻隔膜。
2.如权利要求1所述的层叠体的制造方法,其特征在于,所述氟树脂包含乙烯-四氟乙烯共聚物。
3.如权利要求1或2所述的层叠体的制造方法,其特征在于,所述无机化合物是由选自氧、氮和碳的至少1种与硅构成的无机硅化合物。
4.如权利要求3所述的层叠体的制造方法,其特征在于,所述无机化合物是氮化硅或氧氮化硅。
5.如权利要求1~4中任一项所述的层叠体的制造方法,其特征在于,成为所述无机化合物中的硅源的气体是SiH4或卤代硅烷。
6.如权利要求1~5中任一项所述的层叠体的制造方法,其特征在于,所述层叠体的可见光透射率为80%以上。
7.如权利要求1~6中任一项所述的层叠体的制造方法,其特征在于,所述层叠体是太阳能电池模块用保护板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社,未经旭硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280020385.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





