[发明专利]具有测量单元的蒸发系统

权利要求书

1.一种用于将材料蒸发到基板上的蒸发器，包含：

导向装置，所述导向装置用于引导所述材料朝向至少一个开式喷嘴，所述导向装置包含：

测量出口，所述测量出口用于一部分所述材料，所述测量出口的蒸发方向显著地不同于所述至少一个开式喷嘴的蒸发方向；

所述蒸发器进一步包含：

第一测量系统，所述第一测量系统配置用于产生与所述蒸发器的沉积速率有关的第一信号并且具有第一检测器，所述第一检测器定位为由材料涂敷；以及

第二光学测量系统，所述第二光学测量系统用于产生与所述蒸发器的沉积速率有关的第二信号，并且其中所述第二信号基于所述测量出口处的所述材料的所述部分。

2.如权利要求1所述的蒸发器，其中所述导向装置包含供气管和分配岐管，所述分配岐管特别地为分配管，并且其中所述至少一个开式喷嘴设置在所述分配岐管中。

3.如权利要求1到2中的任意一项所述的蒸发器，其中所述第二测量系统配置用于测量层厚度。

4.如权利要求1到3中的任意一项所述的蒸发器，进一步包含：

控制器，所述控制器连接到所述第二测量系统以接收所述第二信号，并且其中所述控制器配置用于校准所述第一测量系统。

5.如权利要求1到4中的任意一项所述的蒸发器，进一步包含：

用于测试基板的基板支撑件，其中所述基板支撑件配置用于在使用所述材料的所述部分进行涂敷期间支承基板。

6.如权利要求5所述的蒸发器，其中所述基板支撑件包括致动器，所述致动器用于将所述测试基板的一部分从在所述测量出口和所述第一检测器之间的位置移动到用于涂敷所述第一检测器的位置。

7.如权利要求1到6中的任意一项所述的蒸发器，进一步包含：

闸，所述闸用于选择性地阻挡所述材料的所述部分。

8.如权利要求2到7中的任意一项所述的蒸发器，其中所述测量出口设置在所述供气管中。

9.如权利要求1到8中的任意一项所述的蒸发器，其中所述第一检测器包含至少一个振荡晶体或者四个或更多个振荡晶体，并且其中所述第二测量系统包含电磁辐射源和电磁辐射检测器。

10.如权利要求2到9中的任意一项所述的蒸发器，其中所述第二测量系统包含电磁辐射源和电磁辐射检测器，并且所述第二测量系统配置用于测量所述测试基板上的层厚度。

11.一种用于将材料沉积到基板上的蒸发装置，包含：

腔室，所述腔室用于将材料沉积到基板上；以及

如权利要求1到10中的任意一项所述的蒸发器，其中所述蒸发器设置在所述腔室内。

12.一种操作蒸发装置用于蒸发材料的方法，包含：

经由开式喷嘴将第一部分蒸发材料引导到基板上；

经由测量出口将第二部分蒸发材料引导到第一检测器上；

相对于所述第二部分蒸发材料定位第二测量系统，以使得可以产生与蒸发材料沉积速率相对应的信号，其中设置第二检测器具体包含：

在所述测量出口和所述第一检测器之间移动测试基板部分，以将所述第二部分蒸发材料沉积到所述测试基板部分上；

从所述测量出口和所述第一检测器之间移除所述测试基板部分，以经由所述测量出口再次将所述第二部分蒸发材料引导到所述第一检测器上；以及

使用光学测量系统测量与沉积在所述测试基板部分上的蒸发材料层的层厚度相对应的信号；

所述方法进一步包含：

使用所述信号来校准所述第一检测器。

13.如权利要求12所述的方法，进一步包含：

移动闸，以选择性地阻挡第二部分材料。

14.如权利要求12到13中的任意一项所述的方法，其中测量包括：测量移动所述基板之前的层厚度与移除所述基板之后的层厚度之间的层厚度差异。

15.如权利要求12到14中的任意一项所述的方法，其中使用光学测量系统的测量选自包括以下测量的群组：光吸收测量；干涉仪测量；以及椭偏测量；光反射测量；光透射测量；光致发光测量；包括400nm以下波长的波长范围内的光反射测量；包括400nm以下波长的波长范围内的光透射测量；以及这些测量的组合。