[发明专利]强化玻璃基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201280018629.8 | 申请日： | 2012-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN103476728A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 片山裕贵;田部昌志;冈卓司 | 申请（专利权）人： | 日本电气硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C21/00 | 分类号： | C03C21/00;C03C3/083;C03C3/085;C03C3/087;G09F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 强化 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一种强化玻璃基板，其是利用浮法成形而成的强化玻璃基板，其特征在于，
其底面的压缩应力值大于顶面的压缩应力值。
2.根据权利要求1所述的强化玻璃基板，其特征在于，所述底面的压缩应力值-顶面的压缩应力值即ΔCS为5MPa～39MPa。
3.根据权利要求1或2所述的强化玻璃基板，其特征在于，翘曲率小于0.20％。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO240％～71％、Al2O37％～21％、Li2O0％～1％、Na2O7％～20％、K2O0％～15％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，其利用离子交换进行强化而成。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，应力厚度为10μm以上。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，内部拉伸应力为200MPa以下。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，板厚为1.0mm以下。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，液相粘度为104.0dPa·s以上。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的强化玻璃基板，其特征在于，其被用作显示器的外壳玻璃。
11.一种强化用玻璃基板，其是利用浮法成形而成的强化用玻璃基板，其特征在于，
将该强化用玻璃基板在440℃的KNO3熔融盐中浸渍6小时时，其底面的压缩应力值大于顶面的压缩应力值。
12.一种强化用玻璃基板，其是利用浮法成形而成的强化用玻璃基板，其特征在于，
将该强化用玻璃基板在440℃的KNO3熔融盐中浸渍6小时时，其翘曲率小于0.20％。
13.一种强化玻璃基板的制造方法，其特征在于，其具有：
成形工序，利用浮法成形为板状，从而得到强化用玻璃基板；
研磨工序，对所述强化用玻璃基板的顶面和／或底面进行研磨；以及
强化工序，对所述强化用玻璃基板进行离子交换处理，从而使所述底面的压缩应力值大于所述顶面的压缩应力值。
14.根据权利要求13所述的强化玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨工序为仅对所述顶面进行研磨的工序或者对所述顶面和所述底面进行研磨并且所述顶面的研磨厚度大于所述底面的研磨厚度的工序。
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