[发明专利]具有大的孔长度的二氧化硅粉末

权利要求书

1.一种初级粒子的聚集体形式的二氧化硅粉末，特征在于其比孔长度L是2.5×10⁵―4×10⁵m/μg，其中L定义为根据式L=(BET×BET)/BJH体积，由BET表面积的平方和使用BJH方法所测量的累积的2-50nm孔体积所形成的商。

2.权利要求1的二氧化硅粉末，特征在于BET表面积是400-600m²/g。

3.权利要求1或2的二氧化硅粉末，特征在于使用BJH方法所测量的累积的2-50nm孔体积是0.7-0.9cm³/g。

4.权利要求1-3的二氧化硅粉末，特征在于t-plot微孔体积是0.030-0.10cm³/g。

5.一种生产权利要求1-4的二氧化硅粉末的方法，特征在于将包含可氧化的和/或可水解的硅化合物、氢气和含氧的气体1的气体混合物在燃烧器中点燃，并且将火焰烧进反应室，将含氧的气体2另外引入到该反应室中，然后将所获得的固体材料任选地用水蒸气处理，并且与气态材料分开，并且限定：

a)在燃烧器中

由供给量的氧和化学计量所需量的氧所形成的商I是2-4，和

由供给量的氢和化学计量所需量的氢所形成的商II是0.70-1.30，和

来自燃烧器的气体混合物的出口速度v是10-100ms^-1和优选30-60ms^-1，和

b)在反应空间中

由总供给量的氧和化学计量所需量的氧所形成的商III是2-4，和

商III/商I之比是1.1-1.5。

6.权利要求5的方法，特征在于商I=2.20-3.00，商II=0.80-0.95，商III=2.50-3.80，v=30-60ms^-1。

7.权利要求5的方法，特征在于商I=2.20-3.00，商II=1.00-1.30，商III=2.50-3.80，v=30-60ms^-1。

8.权利要求5-7的方法，特征在于使用选自下面的至少一种硅化合物：SiCl₄、CH₃SiCl₃、(CH₃)₂SiCl₂、(CH₃)₃SiCl、HSiCl₃、H₂SiCl₂H₃SiCl(CH₃)₂HSiCl、CH₃C₂H₅SiCl₂、(n-C₃H₇)SiCl₃和(H₃C)_xCl_3-xSiSi(CH₃)_yCl_3-y，其中R=CH₃和x+y=2-6。

9.一种初级粒子的聚集体形式的硅烷化的二氧化硅粉末，特征在于其比孔长度L是2.5×10⁵―3.5×10⁵m/μg，其中L定义为根据式L=(BET×BET)/BJH体积，由BET表面积的平方和使用BJH方法所测量的累积的2-50nm孔体积所形成的商，并且其中所述聚集体或者其部分的表面积被化学键合的甲硅烷基占据。

10.权利要求9的二氧化硅粉末，特征在于该BET表面积是400-550m²/g。

11.一种热绝缘材料，其包含权利要求1-4的二氧化硅粉末和/或权利要求9或10的硅烷化的二氧化硅粉末。

12.权利要求1-4的二氧化硅粉末或者权利要求9或10的硅烷化的二氧化硅粉末的用途，其用作橡胶、硅橡胶和塑料中的填料，用作涂料和油漆中的流变改性剂，用作催化剂载体和用作油墨接受性介质的成分。