[发明专利]荧光体及其制造方法有效
申请号: | 201280018413.1 | 申请日: | 2012-02-06 |
公开(公告)号: | CN103476902A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 元炯植;金圣民;闵赞淑;尹喆洙 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | C09K11/64 | 分类号: | C09K11/64;C09K11/80;C09K11/79 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 及其 制造 方法 | ||
1.一种荧光体,具有如下组成式1:
[组成式1]
SrySi(6-z)AlzOzN(8-z):Rex,
其中,x、y、z分别满足0.005≤x≤0.05、0.05≤y≤0.5、0.001≤z≤0.50,Re为稀土元素。
2.如权利要求1所述的荧光体,其中,所述z为0.10~0.35。
3.如权利要求1所述的荧光体,其中,当照射激励源时,发光峰值波长在525~537nm范围内。
4.如权利要求1所述的荧光体,其中,所述稀土元素是从由Eu和Ce构成的组中选择。
5.一种荧光体,具有如下组成式2:
[组成式2]
SryBamSi(6-z)AlzOzN(8-z):Rex,
其中,x、y、z分别满足0.005≤x≤0.05、0.05≤y≤0.5、0.50<z≤1.0,m满足0.003≤m≤0.125,Re为稀土元素。
6.如权利要求5所述的荧光体,其中,所述m为0.01≤m≤0.125。
7.如权利要求5所述的荧光体,其中,当照射激励源时,发光峰值波长在525~537nm范围内。
8.一种荧光体,具有如下组成式3:
[组成式1]
SrySi(6-z)AlzOzN(8-z):Rex,
其中,x、y、z分别满足0.005≤x≤0.05、0.05≤y≤0.5、0.50<z≤1.0,m满足0.05≤m≤0.5,Re为稀土元素。
9.如权利要求8所述的荧光体,其中,所述z为0.58≤z≤0.75。
10.如权利要求8所述的荧光体,其中,当照射激励源时,发光峰值波长在525~537nm范围内。
11.一种荧光体制造方法,包括如下步骤:
将锶前驱体、硅前驱体、铝前驱体、以及活性物质前驱体进行混合而生成混合物;
使所述混合物在氮气氛围下烧结,
在此,所述荧光体具有如下组成式1:
[组成式1]
SrySi(6-z)AlzOzN(8-z):Rex,
其中,x、y、z分别满足0.005≤x≤0.05、0.05≤y≤0.5、0.001≤z≤0.50,Re为稀土元素。
12.如权利要求11所述的荧光体制造方法,其中,所述锶前驱体为SrCO3。
13.如权利要求11所述的荧光体制造方法,其中,所述铝前驱体是从由金属铝和氮化铝构成的组中选择。
14.如权利要求11所述的荧光体制造方法,其中,所述活性物质前驱体为包含所述稀土元素的化合物。
15.如权利要求14所述的荧光体制造方法,其中,所述稀土元素是从由Eu和Ce构成的组中选择。
16.如权利要求11所述的荧光体制造方法,其中,进行所述烧结的步骤是在1800℃~2200℃下进行。
17.如权利要求11所述的荧光体制造方法,其中,进行所述烧结的步骤是在0.1~10Mpa的氮气压力下进行。
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