[发明专利]无溶剂组合物及其制备方法有效
申请号: | 201280018252.6 | 申请日: | 2012-02-14 |
公开(公告)号: | CN103492433A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 朱孝叔;沈廷夑;S·R·金;张锡基 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | C08F20/10 | 分类号: | C08F20/10;C08F20/18;C08L33/04;C08J5/18;C09J7/02 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 王媛;钟守期 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溶剂 组合 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于制备薄膜的无溶剂组合物,包括:
(甲基)丙烯酸聚合物组分,所述聚合物组分含有作为聚合单元的(甲基)丙烯酸酯-基单体且侧链或末端含有光反应基团;以及
具有高玻璃化转变温度的单体组分,
其中,所述(甲基)丙烯酸聚合物组分具有低玻璃化转变温度,且作为用于制备薄膜的无溶剂组合物呈部分聚合状态,所述用于制备薄膜的无溶剂组合物提供固化后的玻璃化转变温度为-20℃(250K)或更高的固化产物。
2.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述(甲基)丙烯酸聚合物组分包括:
包含(甲基)丙烯酸酯-基单体和含有第一反应基团的可共聚单体的单体混合物的本体聚合产物;和
提供呈与所述本体聚合产物中的第一反应基团键接状态的光反应基团的化合物。
3.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述光反应基团为(甲基)丙烯酰基。
4.根据权利要求2所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述(甲基)丙烯酸酯-基单体包括(甲基)丙烯酸烷基酯。
5.根据权利要求2所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述第一反应基团为至少一种选自如下的基团:羟基、羧基、异氰酸酯基、氨基和环氧基。
6.根据权利要求2所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述单体混合物包括70-99重量份的(甲基)丙烯酸酯-基单体和1-30重量份的含有第一反应基团的可共聚单体。
7.根据权利要求2所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述提供光反应基团的化合物为至少一种选自如下的化合物:式1化合物;式2化合物;式3化合物;多官能异氰酸酯化合物与式4化合物的反应产物;以及多官能异氰酸酯化合物、多元醇化合物与式4化合物的反应产物:
[式1]
R1-NCO
[式3]
Si(R4)n(R5)m(R6)l
在所述化学式1-4中,R1为被(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰氧基烷基或烯基苯基取代的烷基;(甲基)丙烯酰基;(甲基)丙烯酰氧基;或烯基,R2为氢或烷基,R3为氢或缩水甘油基,R4为(甲基)丙烯酰氧烷基,R5为卤原子,R6为烷基,n+m+l为4,n和m各自独立地为1-3,R7为羟烷基。
8.根据权利要求2所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所包含的所述提供光反应基团的化合物为1-200当量重量,相对于100当量重量的聚合产物中的反应基团计。
9.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述具有高玻璃化转变温度的单体组分为玻璃化转变温度为20℃至100℃的单体。
10.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述(甲基)丙烯酸聚合物组分为玻璃化转变温度为-50℃至0℃的单体。
11.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所述具有高玻璃化转变温度的单体组分为至少一种选自如下的物质:丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸甲酯和苯乙烯。
12.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所包含的所述具有高玻璃化转变温度的单体组分为35-300重量份,相对于100重量份(甲基)丙烯酸聚合物组分计。
13.根据权利要求1所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,所述组合物还包含:
多官能丙烯酸酯或丙烯酸酯-基寡聚物。
14.根据权利要求13所述的用于制备薄膜的无溶剂组合物,其中,所包含的所述多官能丙烯酸酯或丙烯酸酯-基寡聚物为500重量份或更少,相对于100重量份(甲基)丙烯酸聚合物组分计。
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