[发明专利]扫描离子束的改善均匀性有效

专利信息
申请号: 201280017078.3 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN103477416B 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 爱德华·艾伊斯勒;安迪·雷;伯·范德伯格 申请(专利权)人: 艾克塞利斯科技公司
主分类号: H01J37/302 分类号: H01J37/302;H01J37/317
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 扫描 离子束 改善 均匀
【权利要求书】:

1.一种离子注入器,包括:

离子源,用于产生离子束;

扫描仪,用于使所述离子束沿着第一轴在工件的表面上来回扫描, 从而提供扫描离子束;

偏转滤波器,所述偏转滤波器在所述扫描仪的下游,用于沿着第 二轴将抖动引入所述扫描离子束,其中所述第二轴与所述第一轴交叉; 以及

平行化器,所述平行化器位于所述扫描仪与所述偏转滤波器之间, 其中,所述平行化器随着时间接收多个不同碰撞角的所述扫描离子束, 并且改变所述扫描离子束的所述不同碰撞角以随着时间输出平行化的 离子束。

2.根据权利要求1所述的离子注入器,其中,所述偏转滤波器 被配置为:不但将所述抖动引入所述扫描离子束,而且提供所述扫描 离子束的与时间无关的偏转。

3.根据权利要求1所述的离子注入器,其中,使所述离子束沿 着所述第一轴根据扫描频率进行扫描,并且使所述离子束沿着所述第 二轴根据抖动频率进行抖动,其中所述抖动频率大于所述扫描频率。

4.根据权利要求1所述的离子注入器,还包括:

机械装备,用于沿着所述第二轴平移所述工件,由此所述扫描仪、 所述偏转滤波器、以及所述机械装备以协调的方式进行操作以将离子 注入所述工件中。

5.根据权利要求4所述的离子注入器,其中,沿着所述第一轴 使所述离子束进行扫描,以便间断地达到峰值扫描速度,并且沿着所 述第二轴以平移速度来平移所述工件,所述平移速度小于所述峰值扫 描速度。

6.根据权利要求1所述的离子注入器,其中,所述偏转滤波器 在所述平行化器的下游。

7.根据权利要求1所述的离子注入器,还包括:

束通道,所述束通道在所述扫描仪与所述偏转滤波器之间,所述 束通道包括限定所述扫描离子束通过的腔室的内表面,其中,所述腔 室具有沿着所述第一轴具有第一距离并且沿着所述第二轴具有第二距 离的横截面,其中,所述第二距离小于所述第一距离。

8.根据权利要求1所述的离子注入器,其中,所述扫描仪包括:

第一组电极,在所述第一组电极上提供第一时变波形,其中,所 述第一时变波形使所述离子束沿着所述第一轴在所述工件的所述表面 上进行扫描。

9.根据权利要求8所述的离子注入器,其中,所述偏转滤波器 包括:

第二组电极,其中,在所述第二组电极上提供第二时变波形,以 将所述抖动引入所述扫描离子束。

10.根据权利要求1所述的离子注入器,其中,所述扫描仪包括:

一个或多个磁体,用于在所述扫描仪内提供第一时变磁场,其中, 所述第一时变磁场使所述离子束沿着所述第一轴在所述工件的所述表 面上进行扫描。

11.根据权利要求1所述的离子注入器,其中,所述偏转滤波器 包括:

一个或多个磁体,用于在所述扫描仪的下游提供第二时变磁场, 其中,所述第二时变磁场将所述抖动引入所述扫描离子束。

12.一种用于将离子注入工件中的方法,包括:

产生离子束;

使所述离子束以第一扫描速率沿着第一轴来回扫描,以提供扫描 离子束;

平行化所述扫描离子束,以提供平行化的扫描离子束;以及

将抖动引入所述平行化的扫描离子束。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,使所述离子束沿着所 述第一轴根据扫描频率进行扫描,并且使所述离子束沿着第二轴根据 抖动频率进行抖动,其中,所述抖动频率大于所述扫描频率。

14.根据权利要求12所述的方法,还包括:

沿着与所述第一轴交叉的第二轴平移所述工件,使得以与呈现抖 动的所述平行化的扫描离子束协调的方式平移所述工件,从而将离子 注入所述工件中。

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