[发明专利]显示用基板、有机电致发光显示装置和它们的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及在显示用基板上形成规定图案的蒸镀膜的蒸镀技术，更详细地说，涉及使用了这样的蒸镀技术的显示用基板、有机电致发光显示装置和它们的制造方法。

背景技术

近年来，在各种商品、领域中平板显示器被灵活利用，要求平板显示器的进一步大型化、高画质化、低耗电化。

在这样的状况下，具有利用了有机材料的电场发光(电致发光，以下记为“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为全固体型且在低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器，受到人们高度关注。

有机EL显示装置例如具有在由设置有TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板等形成的基板上，设置有与TFT连接的有机EL元件的结构。

有机EL元件是能够通过低电压直流驱动进行高亮度发光的发光元件，具有第一电极、有机EL层和第二电极依次叠层而成的构造。其中第一电极与TFT连接。

此外，在第一电极与第二电极之间，作为上述有机EL元件，设置有使空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等叠层而成的有机层。

图19是示意性地表示一般的全彩色有机EL显示装置的各像素中的子像素排列的图。

如图19所示，全彩色的有机EL显示装置，一般将具有R(红)、G(绿)、B(蓝)各种颜色的发光层的有机EL元件作为子像素，在TFT基板等显示用的半导体基板上排列形成，使用TFT有选择地使这些有机EL元件以期望的亮度发光，由此进行图像显示。

在这样的有机EL显示装置的制造中，在每个作为发光元件的有机EL元件中图案形成至少具有以各种颜色发光的有机发光材料的发光层(例如参照专利文献1、2)。

上述有机EL元件通过有机膜的叠层蒸镀构成，发光层需要按各个颜色的子像素分开蒸镀。

例如，在低分子型有机EL显示器(OLED)中，一直以来，通过使用蒸镀用的掩模的蒸镀法，进行有机膜(有机层)的分涂形成。

作为进行发光层的图案形成的方法，例如已知使用了被称为荫罩(shadow mask)的蒸镀用的掩模的真空蒸镀法。进而，上述真空蒸镀法大致分为：使被成膜基板和蒸镀用的掩模紧贴而进行成膜的方法；和使被成膜基板和蒸镀用的掩模分离而进行成膜的扫描蒸镀法。

在像这样使用蒸镀用的掩模的真空蒸镀法中，使被成膜基板和蒸镀源相对配置，在掩模中设置与蒸镀区域的一部分的图案对应的开口部，使得在目标蒸镀区域以外的区域不会附着蒸镀颗粒，使蒸镀颗粒经过该开口部后蒸镀于基板，由此进行图案形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开专利公报(日本特开2000-188179号公报(公开日：2000年7月4日))

专利文献2：日本公开专利公报(日本特开平10-102237号公报(公开日：1998年4月21日))

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，如上所述，在使用蒸镀用的掩模进行蒸镀时，由于蒸镀用的掩模与被成膜基板的相对位置的位置偏移、在蒸镀用的掩模中形成的开口的加工精度、被成膜基板上的图案精度、扫描蒸镀时的基板的摇动等的影响，发生蒸镀膜的错位(即，发光层的图案偏差)。

当然，在蒸镀膜的图案形成位置没有发生偏移时，如图19所示，分涂而成的蒸镀膜彼此在发光区域上不会重叠。

但是，为此，需要消除在蒸镀用的掩模上形成的开口的加工精度、被成膜基板上的图案精度、扫描蒸镀时的基板的摇动等的影响，需要很高的技术。

而且，在如上所述发生蒸镀膜的错位(位置偏移)时，当蒸镀膜的错位超过允许范围时，如图20所示，应该在相邻的子像素中的一个子像素的区域中形成的蒸镀膜侵入另一子像素的区域，蒸镀膜图案也形成在相邻子像素的发光区域上。图20表示应该在相邻的G、B子像素中的G子像素的区域中形成的蒸镀膜侵入B子像素的区域，发光层(G)的蒸镀膜图案也形成在相邻的B子像素的发光区域上的例子。

在像这样发光层偏移时，在上述另一个子像素中的受到侵入的区域内，受到上述一个子像素的颜色的影响，发生上述另一个子像素的颜色和上述一个子像素的颜色混合，即混色的现象。混色导致显示品质下降，使有机EL显示装置的成品率下降。

为了抑制混色，使子像素间的非发光区域变宽即可，但是这样做的话，子像素的发光区域的画积变小。

当像这样子像素的发光区域的画积变小时，为了得到相同的发光亮度所流过的电流密度变高，因此亮度的经时劣化变早。即寿命变短。