[发明专利]涡流分离设备、分离模块、分离方法以及调节涡流分离设备的方法有效
| 申请号: | 201280015912.5 | 申请日: | 2012-02-28 |
| 公开(公告)号: | CN103459040A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
| 发明(设计)人: | P·C·雷姆;M·C·M·贝克尔;S·P·M·贝尔科特;M·A·拉赫曼 | 申请(专利权)人: | 焚化炉底灰研究与发展公司 |
| 主分类号: | B03C1/247 | 分类号: | B03C1/247 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 邵伟 |
| 地址: | 荷兰代*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 涡流 分离 设备 模块 方法 以及 调节 | ||
1.一种用于从颗粒流分离颗粒的涡流分离设备,其中所述分离设备包括:分离鼓(4),其适合于从颗粒流至少形成从所述鼓沿着第一轨迹(6)移动的第一颗粒部分(21)以及从所述鼓沿着第二轨迹(8)移动的第二颗粒部分(23);位于所述分离鼓上游的供给装置(2),用于将颗粒供应至所述分离鼓;以及设置于所述分离鼓下游的分隔元件(14),用于将第一颗粒部分与第二颗粒部分分隔开,其特征在于:所述分离设备还包括传感器装置(11、111、211),所述传感器装置设置用于从所述颗粒部分之一的至少部分中检测颗粒,至少颗粒的数量和/或材料特性,其中所述分离设备构造为在使用中基于所检测颗粒的数量和/或材料特性根据来自传感器装置的信号调节分隔元件相对于分离鼓(4)的位置和/或方位和/或供给装置(2)的传输速度。
2.根据权利要求1的涡流分离设备,其中所述分隔元件可移动地安装至所述设备以使得分隔元件与分离鼓之间的距离(d)和/或分隔元件相对于分离鼓的方位根据来自传感器装置的所述信号可调节。
3.根据权利要求2的涡流分离设备,其中所述设备构造为基于来自传感器装置的信号大致连续地,例如每几秒钟,调节分隔元件的位置。
4.根据权利要求1-3任何一项所述的涡流分离设备,其中所述传感器装置包括发送器部分(12、112、212),比如光学发送器,适合于以大致束状发送能量,以及接收部分(13、113、213),比如光学接收器。
5.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述传感器装置包括第三传感器部件(218),比如电线圈,其构造为检测通过所述第三传感器部件的颗粒的电磁响应。
6.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述传感器装置包括检测段,所述检测段构造为允许通过第一颗粒部分的样品(即,小百分比),其中所述传感器装置构造为基于传感器计数以及非金属与金属颗粒之间的给定平均颗粒质量比来计算第一颗粒部分的金属等级。
7.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述传感器装置布置于所述分隔元件背离所述分离鼓的一侧处。
8.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中各颗粒部分包括铁金属颗粒部分、非铁金属颗粒部分(21)以及非金属颗粒部分(23)中的一种。
9.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述分离鼓(4)包括永磁体或构造为在分离过程期间接通或切断的电磁体。
10.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述分离设备包括操作性地连接至所述传感器装置、所述颗粒供给装置和/或所述分隔元件的控制单元(16),其中所述控制单元构造为控制供给装置速度、分隔元件相对于分离鼓的位移和/或方位中的至少其中之一
。
11.根据前述权利要求的至少一个的涡流分离设备,其中所述控制单元包括存储器,以存储至少已检测颗粒的数量与分隔元件位置和/或供给装置速度之间的预定关系。
12.根据权利要求10-11任何一项所述的涡流分离设备,其中所述设备还包括用于确定所述供给装置至分离鼓的颗粒供给速度的装置,其中所述控制单元操作性地结合至所述装置。
13.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述分离设备包括框架,所述框架可滑动地接收所述分隔元件,例如借助于设置于所述框架上的导向件(15)。
14.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述分离设备包括可旋转地接收所述分隔元件的框架,例如还包括马达,所述马达操作性地结合至所述分隔元件以使得所述分隔元件能通过所述马达的旋转轴线而旋转。
15.根据前述权利要求任何一项所述的涡流分离设备,其中所述传感器装置的发送器部分设置为使得在使用中发送的能量在与分隔元件表面大致垂直的方向上朝着分隔元件表面行进。
16.根据权利要求1-14任何一项所述的涡流分离设备,其中所述传感器装置的发送器设置为使得在使用中发送的能量大致平行于分隔元件表面地行进。
17.根据权利要求15或16的涡流分离设备,其中所述传感器装置的接收器部分设置为距分隔元件表面一个距离。
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