[发明专利]粘合剂组合物及光学构件用薄膜有效
申请号: | 201280015512.4 | 申请日: | 2012-03-26 |
公开(公告)号: | CN103459537A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 鸭井彬;宫崎英树 | 申请(专利权)人: | 日本电石工业株式会社 |
主分类号: | C09J133/06 | 分类号: | C09J133/06;C09J7/02;C09J11/02;C09J133/08;C09J133/14;C09J183/12;G02B5/30 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘宗杰;巩克栋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合剂 组合 光学 构件 薄膜 | ||
1.一种粘合剂组合物,包含:
丙烯酸系共聚物(A),其含有40质量%~80质量%的来自于具有碳数为1~5的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯的构成单元、10质量%~59.9质量%的来自于具有碳数为6~18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯的构成单元、以及0.1质量%~10质量%的来自于具有羟基的单体的构成单元;
含有聚氧亚烷基的共聚物(B),其含有来自于烯化氧单元的平均加成摩尔数为20以上的含有聚氧亚烷基的单体的构成单元及来自于所述含有聚氧亚烷基的单体以外的单体的构成单元,来自于所述含有聚氧亚烷基的单体的构成单元的含有率为60质量%以下,重均分子量为3,000~100,000;
碱金属盐(C);
二甲基聚硅氧烷化合物(D),其在分子内具有聚氧亚烷基,HLB值为9以下。
2.根据权利要求1所述的粘合剂组合物,其中,
所述二甲基聚硅氧烷化合物(D)的HLB值为5以上且8以下。
3.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物,其中,
相对于所述丙烯酸系共聚物(A)100质量份的所述含有聚氧亚烷基的共聚物(B)的含量、以及所述碱金属盐(C)的含量分别为0.05质量份~2.0质量份、以及0.01质量份~0.6质量份。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的粘合剂组合物,其中,
相对于所述丙烯酸系共聚物(A)100质量份的所述二甲基聚硅氧烷化合物(D)的含量为0.01质量份~1.0质量份。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的粘合剂组合物,其中,
所述具有碳数为1~5的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯为(甲基)丙烯酸正丁酯。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的粘合剂组合物,其中,
所述具有碳数为6~18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯为丙烯酸2-乙基己酯。
7.一种光学构件用薄膜,其具备基材和粘合剂层,所述粘合剂层设于所述基材上,是权利要求1~6中任一项所述的粘合剂组合物的涂膜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电石工业株式会社,未经日本电石工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280015512.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:绝对编码装置及电动机
- 下一篇:锅炉用氮气膨胀水箱
- 同类专利
- 专利分类
C09J 黏合剂;一般非机械方面的黏合方法;其他类目不包括的黏合方法;黏合剂材料的应用
C09J133-00 基于有1个或多个不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物的黏合剂,其中每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键,并且至少有1个是仅以1个羧基或其盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端;基于此类聚合物的衍生物的黏合剂
C09J133-02 .酸的均聚物或共聚物;其金属盐或铵盐
C09J133-04 .酯的均聚物或共聚物
C09J133-18 .腈的均聚物或共聚物
C09J133-24 .酰胺或酰亚胺的均聚物或共聚物
C09J133-26 ..丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺的均聚物或共聚物