[发明专利]光刻用清洗液以及使用了其的图案形成方法

权利要求书

1.一种光刻用清洗液，其特征在于，其至少包含磺酸、具有亚烷基氧基的非离子性表面活性剂以及水。

2.根据权利要求1所述的光刻用清洗液，其中，所述磺酸为由下述通式(I)表示的磺酸，

R-SO₃H  (I)

式中，R为碳原子数1～30的烃基，烃基可以为链状、环状中的任一个，也可具有支链，也可包含双键或者三键，另外烃基中所含的一部分或者全部氢也可由卤素原子、羟基、磺酸基、羧基等取代。

3.根据权利要求2所述的光刻用清洗液，其中，所述磺酸为由下述通式(Ia)表示的磺酸，

C_nH_2n+1-xF_xSO₃H  (Ia)

式中，n为1～30，0≤x≤2n＋1。

4.根据权利要求2所述的光刻用清洗液，其中，所述磺酸为由下述通式(Ib)表示的磺酸，

(R¹)_y-Ph-SO₃H  (Ib)

式中，Ph为亚苯基，R¹为氢、所述烃基，烃基可以为链状、环状中的任一个，也可具有支链，也可包含双键或者三键，另外烃基中所含的氢的一部分或者全部也可由卤素原子、羟基、磺酸基、羧基等取代，0≤y≤5，y为2以上的情况下，各个R¹可以相同也可不同，式中所含的碳原子的总数为30以下。

5.根据权利要求2所述的光刻用清洗液，其中，所述磺酸为由下述通式(Ic)表示的磺酸，

[化学式1]

式中，R²为氢、烃基，所述烃基可以为链状、环状中的任一个，也可具有支链，也可包含双键或者三键，另外烃基中所含的一部分或者全部氢也可由卤素原子、羟基、磺酸基、羧基等取代，另外R²也可以为介由双键而键合于构成环的碳上的氧，0≤z≤5，z为2以上的情况下，各个R²可以相同也可不同，式中所含的碳原子的总数为30以下。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的光刻用清洗液，其中，磺酸的含有率以光刻用清洗液的总重量为基准是0.005～10%。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光刻用清洗液，其中，所述表面活性剂由下述通式(IIa)或者(IIb)表示，

[化学式2]

式中，EO表示-(CH₂)₂-O-，PO表示-CH₂-CH(CH₃)-O-，EO以及PO的单元分别可以无规地结合，也可形成嵌段，

L为碳原子数1～30的烃链，也可包含不饱和键，

R^b为碳原子数5～30的饱和或者不饱和的烃链，

r1～r3以及s1～s3是表示EO或者PO的重复数的20以下的整数，r1＋s1、以及r2＋s2各自独立地为0～20的整数，其中，r1＋s1＋r2＋s2为1以上的整数，

r3＋s3为1～20的整数。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的光刻用清洗液，其中，所述表面活性剂的含有率以光刻用清洗液的总重量为基准是0.005～10%。

9.一种图案形成方法，其特征在于，其包含如下工序：

(1)在基板上涂布感光性树脂组合物而形成感光性树脂组合物层，

(2)将所述感光性树脂组合物层进行曝光，

(3)利用显影液将曝光完成的基板显影，

(4)用权利要求1～8中任一项所述的光刻用清洗液进行处理。