[发明专利]用于获得提供有涂层的基材的方法

权利要求书

1.获得在其至少一面上提供有涂层(2)的基材(1)的方法，包括沉积所述涂层(2)的步骤，然后所述涂层使用主要激光辐射(4)的热处理步骤，所述方法的特征在于，透射过所述基材(1)和/或被所述涂层(2)反射的主要激光辐射(4)的至少一部分(5，14)被重定向在所述基材的方向上，以便形成至少一个次要激光辐射(6，7，18)。

2.根据上述权利要求之一的方法，其中所述基材(1)由玻璃或者有机聚合物材料制成。

3.根据上述权利要求之一的方法，其中所述涂层(2)包含至少一个薄层，该薄层选自银层、氧化钛层和透明的导电层。

4.根据上述权利要求之一的方法，其中所述基材(1)的与通过该至少一个激光辐照处理过的面相反的面的温度在热处理过程中不超过100℃，特别是50℃和甚至30℃。

5.根据上述权利要求之一的方法，其中所述主要激光辐射(4)来自至少一个形成线的激光束，该线同时照射所述基材(1)的整个或者部分宽度。

6.根据上一项权利要求的方法，其中实施在所述基材(1)和所述或每个激光线之间的相对移动，从而使所述基材(1)和所述激光的各自速度之间的差值大于或等于4m/min，特别是6m/min。

7.根据上述权利要求之一的方法，其中所述激光辐射(4)的波长为500-2000nm，特别是700-1100nm。

8.根据上述权利要求之一的方法，其中所述次要激光辐射(6，7，18)通过使用至少一个反射镜(8，10，15，17)将透射过所述基材(1)和/或被所述至少一个涂层(2)反射的主要激光辐射(4)的部分(5，14)反射而形成。

9.根据上述权利要求之一的方法，其中所述次要激光辐射(6，7，18)在与所述主要激光辐射(4)相同的位置冲击所述基材(1)。

10.根据上述权利要求之一的方法，其中所述次要激光辐射(6，7，18)具有与所述主要激光辐射(4)相同的轮廓。

11.根据上述权利要求之一的方法，其中所述次要激光辐射(6，7，18)的焦点深度与所述主要激光辐射(4)的焦点深度相同。

12.根据上述权利要求之一的方法，其中由所述主要辐射(4)和/或所述次要辐射(6，7，18)和所述基材(1)的法线所形成的角度不为零，通常为小于45°，特别是8-13°。

13.根据上述权利要求之一的方法，其中所述或每条次要激光辐射(6，7，18)是使用光学装配件而形成的，该光学装配件仅仅包括选自反射镜(8，10，15，17)、棱镜(13)和透镜(11，19)的光学元件。

14.根据上一项权利要求的方法，其中所述光学装配件由两个反射镜(8，10，15，17)和一个透镜(11，19)、或由一个棱镜(13)和一个透镜(11)组成。

15.根据上述权利要求之一的方法，其中所述至少一个涂层(2)通过磁场增强的阴极溅射进行沉积。