[发明专利]玻璃基材表面清洁设备和玻璃基材表面清洁方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃基材表面清洁设备以及一种从玻璃基材表面清洁在分离玻璃基材的分离设备中所产生的粘附至玻璃基材表面的杂质(主要是碎玻璃)的方法，更特别地涉及一种由此用于在制造液晶面板的过程中应用起偏振板之前在液晶面板中所用的玻璃基材的玻璃基材表面清洁设备和方法。

背景技术

目前，在玻璃基材上使用真空吸引装置或使用磨料等的设备和方法是已知的用于去除粘附至玻璃基材，并与分离玻璃基材的基材分离设备相关的杂质(主要是碎玻璃)的清洁设备和方法(例如，日本未审专利申请公布No.2008-94690和No.2005-81297)。

发明内容

本发明待解决的问题是提供一种具有清洁功能的玻璃基材表面清洁设备和方法，其可适当地应用于存在于玻璃基材上的各种尺寸(例如，10μm至1000μm范围内)的杂质(主要是碎玻璃)。

根据本发明的玻璃基材表面清洁设备的一方面由玻璃基材表面清洁设备100构成，所述玻璃基材表面清洁设备100具有玻璃基材支撑和传送机构20以及玻璃基材表面清洁机构10，所述玻璃基材支撑和传送机构20支撑玻璃基材50并在第一方向(图3中的M)上传送玻璃基材，所述玻璃基材表面清洁机构10包括清洁带11，所述清洁带11去除粘附至玻璃基材的表面的杂质300，并在与第一方向相交的第二方向(图3中的N)上在玻璃基材的表面上滑动。清洁带11包括在其表面上的多个三维结构化的研磨凸起70以及位于涂布膜之间的凹槽60。凹槽60的宽度62宽于粘附至玻璃基材的表面的杂质300的外部宽度尺寸。

在本文，“清洁”意指从玻璃基材上去除杂质(主要是碎玻璃)。“杂质的外部宽度尺寸”意指在清洁带在玻璃基材上滑动的第二方向(图3中的N)上的杂质的最大外周宽度。“凹槽”意指在三维结构化研磨凸起与另一相邻的三维结构化研磨凸起之间所形成的间隙。“凹槽宽度”意指三维结构化研磨凸起70的顶部72与另一相邻的三维结构化研磨凸起70的顶部72之间的间隔。碎玻璃意指当玻璃产品压碎或破碎等时所产生的玻璃废料。

本发明的另一方面为一种在如上玻璃基材表面清洁设备100中所用的清洁带11。

另外，本发明的另一方面由一种玻璃基材表面清洁方法构成，所述玻璃基材表面清洁方法包括使用玻璃基材支撑和传送机构20在第一方向上传送玻璃基材50，以及在玻璃基材50的表面上在与所述第一方向相交的第二方向上滑动玻璃基材表面清洁机构10的清洁带11，以去除粘附至玻璃基材50的表面的杂质300。所述清洁带包括在其表面上的多个三维结构化研磨凸起70以及位于涂布膜之间的凹槽60。凹槽60的宽度宽于粘附至玻璃基材50的表面的杂质300的外部宽度尺寸。

根据本发明的玻璃基材表面清洁设备和方法，有可能适当可靠地从玻璃基材去除具有一系列尺寸的杂质(主要是碎玻璃)。

附图说明

图1为示出了根据本发明的玻璃基材表面清洁设备的总体构造的透视图；

图2为示出了根据本发明的玻璃基材表面清洁设备的总体构造的前正视图；

图3为示出了在根据本发明的玻璃基材表面清洁设备中，玻璃基材的传送方向(第一方向，M)与清洁带的滑动方向(第二方向，N)之间的关系的平面图；

图4为示出了具有多个三维结构化研磨凸起的三维结构化磨料层的一部分的平面图，所述三维结构化磨料层设置于清洁带的表面上，所述清洁带设置于根据本发明的玻璃基材表面清洁设备中；

图5为沿着图4中的剖面线X-X的横截面图；

图6a-6d为示出了当凹槽宽度宽于杂质的外部宽度尺寸时，粘附至玻璃基材的表面的杂质(碎玻璃)与设置于清洁带的三维结构化磨料层中的凹槽之间的行为关系的示意性剖视图；和

图7a-7d为示出了当凹槽宽度窄于杂质的外部宽度尺寸时，粘附至玻璃基材的表面的杂质(碎玻璃)与设置于清洁带的三维结构化磨料层中的凹槽之间的行为关系的示意性剖视图。

具体实施方式

接着，参照附图详细解释本发明的实施例，但应理解为本发明并不局限于如下实施例，基于本发明所属领域技术人员的知识，在不偏离本发明的范围的情况下，可对设计适当地进行修改、改进等。