[发明专利]剃须刀的刀口及刀片的制造方法无效

专利信息
申请号: 201280010883.3 申请日: 2012-02-28
公开(公告)号: CN103403218A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 郑盛元 申请(专利权)人: 株式会社多乐可
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/35;C23C14/46
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 程钢
地址: 韩国京畿道*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 剃须刀 刀口 刀片 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种剃须刀的刀口及刀片的制造方法,更详细而言,涉及一种在刀口(Edge)和刀片具备同时具有用于提高耐久性和硬度的金属特性和陶瓷特性的硬质复合薄膜的剃须刀的刀口及刀片的制造方法。

背景技术

通常,湿式剃须刀的刀片使用不锈钢等母材。尤其,为了提高所述刀片的硬度,对所述不锈钢等母材进行热处理过程,然后为了形成刀口而进行研磨过程。最后,在刀口上蒸镀多种涂层材料。

此时,为了提高刀片的硬度及耐久性,所述涂层材料可使用通常的硬质薄膜材料即金属或陶瓷系列的碳化物、氮化物、氧化物等薄膜。在所述刀片涂抹所述硬质薄膜材料后,为了减少剃须时刀片与皮肤的摩擦力,并提高剃须性能,还蒸镀PTFE(PolyTetraFluoroEthylene,以下称为“PTFE”)等有机材料。但是,所述刀片与所述硬质薄膜材料和所述PTFE等有机材料的粘接力不强。因此,为了提高所述刀片和所述硬质薄膜及所述PTFE等有机材料的粘接力,在所述PTFE和所述硬质薄膜之间还蒸镀Cr(Chromium)、Ti(Titanium)、W(Tungsten)、Nb(Niobium)等金属薄膜。

通常,所述硬质薄膜起提高刀片的耐久性、耐腐蚀性及硬度的作用,在所述刀片主要蒸镀Cr(Chromium)-Pt(Platinium)合金等硬度强的材料。即,在刀口和刀片涂抹硬质薄膜,作为一例涂抹Cr-Pt、DLC、CrN、TiN、TiAlN等而提高耐磨性和硬度,从而提高耐久性。更详细而言,为了在所述刀片蒸镀所述材料,作为一例采用分别使用Cr及Pt目标的物理气相沉积法。

一方面,在所述刀口及刀片用物理气相沉积法蒸镀硬质薄膜时,采用使用两个目标旋转刀片或目标,并层叠两个材料的方法。此时,蒸镀室(Chamber)内需要充分的空间,而在狭小空间无法进行蒸镀。而且,难以同时显示两个目标,即两种材料的特性,而且需要充分的时间。即,为了蒸镀所述硬质薄膜而利用现有目标即两个目标的蒸镀法有一定限制。

而且,两个物质使用化合物或混合物或结晶结合的目标时,难以调整两个物质的特性成分比。由此,产生蒸镀与所述两个物质不同的成分的情况,因此,对于蒸镀涂层材料即蒸镀硬质薄膜有一定限制。

发明内容

因此,本发明是为解决所述现有问题而提出的,其目的在于,提供一种利用物理气相沉积法作为单一目标蒸镀Cr-DLC系硬质薄膜时,从所述单一目标中蒸镀两种成分的薄膜的方法。

本发明的其他目的在于,提供一种利用物理气相沉积法在刀片蒸镀同时具有两种成分特性的Cr-DLC系硬质薄膜,在所述刀片蒸镀所述硬质薄膜时利用单一目标而不是结晶结合现有化合物或混合物的目标以及所述Cr及DLC目标,从而蒸镀同时具有所述两种成分的薄膜的方法。

为达成所述目的,根据本发明的剃须刀的刀口及刀片的制造方法,包括对不锈钢进行热处理的第一过程、研磨经热处理的所述不锈钢而形成刀口的第二过程以及在经所述过程形成的所述刀口上蒸镀多个涂层材料的第三过程,在所述第三过程中使用溅镀装置,在所述溅镀装置设置溅镀目标,所述溅镀目标包括蒸镀于所述刀口和刀片的第一成分及第二成分。

如上所述,本发明在刀片同时蒸镀单一目标中的两种成分的薄膜,从而节约在所述刀片蒸镀硬质薄膜所需的时间。而且,无需目标或旋转刀片,也能在狭小空间使用。而且,能够调整蒸镀于表面的目标内的两种成分的物质成分比。

附图说明

图1是体现根据本发明的方法时使用的物理气相沉积的一种的溅镀装置的溅镀目标的概念图。

图2是利用根据本发明的溅镀目标在刀片及刀口蒸镀硬质薄膜的溅镀装置的俯视图。

图3是根据本发明的蒸镀过程中的刀口的蒸镀原理示意图。

图中:

100:溅镀目标,102:金属材料,104:陶瓷材料,200:溅镀装置,206:刀片,208:溅镀目标,300:刀片,302、304:目标

具体实施方式

以下,参照附图详细说明根据本发明的优选实施例。

说明本发明时,若判断为对于相关公知功能或构成的具体说明能够使本发明的要旨变不明确,则省略对其具体说明。参照附图详细说明本发明则为如下。

在本发明的实施例中,说明利用物理气相沉积法(Physical VaporDeposition,以下称为“PVD)在刀口及刀片涂抹即蒸镀Cr-DLC系硬质薄膜,作为一例采用结晶或非结晶特性的薄膜,且利用薄膜的厚度T为0<T≤200nm的Cr-DLC系硬质薄膜来蒸镀的方法。

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