[发明专利]等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置无效
申请号: | 201280010543.0 | 申请日: | 2012-02-15 |
公开(公告)号: | CN103392383A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 斋藤亮彦;实松涉;成田宪二;中山敏 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;B01J19/08;B08B3/10;B26B19/48;C01B13/11;C02F1/46;C02F1/48;C02F1/72;C02F1/78 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 发生 装置 以及 使用 清洗 净化 | ||
1.一种等离子体发生装置,其特征在于,具备:
液体容纳部,其容纳含水的液体;
气体容纳部,其容纳气体;
隔离壁部,其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开,具有用于将上述气体容纳部的气体引导到上述液体容纳部的气体通路;
第一电极,其被配置于上述气体容纳部;
第二电极,其被配置成与上述液体容纳部的液体相接触;
气体供给部,其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式,来向上述气体容纳部供给含氧的气体;
等离子体电源部,其在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电,由此使加压输送到上述液体容纳部的液体内的气体等离子体化;以及
排水促进部,其避免在排出上述液体容纳部内的液体之后在上述气体通路中残留液体。
2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置,其特征在于,
上述排水促进部由使上述气体通路的上述液体容纳部侧的开口周缘部比该开口周缘部的周围突出而得到的突起形状部构成。
3.根据权利要求2所述的等离子体发生装置,其特征在于,
上述气体通路的至少内表面或者上述突起形状部由疏水性部件形成。
4.根据权利要求1或2所述的等离子体发生装置,其特征在于,
作为上述排水促进部,上述气体通路的上述液体容纳部侧的至少开口周缘部由亲水性部件形成。
5.根据权利要求1所述的等离子体发生装置,其特征在于,
利用向上述气体通路喷出空气的空气喷出机构来构成上述排水促进部。
6.根据权利要求1所述的等离子体发生装置,其特征在于,
利用对上述气体通路施加振动的振动施加机构来构成上述排水促进部。
7.根据权利要求5所述的等离子体发生装置,其特征在于,
上述空气喷出机构使用从上述气体供给部向上述气体容纳部供给的气体。
8.根据权利要求6所述的等离子体发生装置,其特征在于,
上述振动施加机构使用上述气体供给部的振动。
9.一种清洗净化装置,其特征在于,具备根据权利要求1~8中的任一项所述的等离子体发生装置。
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