[发明专利]用于借助于二级薄膜法处理溶液的方法和设备有效
| 申请号: | 201280008969.2 | 申请日: | 2012-02-15 |
| 公开(公告)号: | CN103476485A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
| 发明(设计)人: | H.格拉夫 | 申请(专利权)人: | KSB股份公司 |
| 主分类号: | B01D61/06 | 分类号: | B01D61/06;B01D61/12;B01D61/58;C02F1/44;F01K27/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陈浩然;杨国治 |
| 地址: | 德国弗*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 借助于 二级 薄膜 处理 溶液 方法 设备 | ||
1. 一种用于处理溶液的方法,在其中,在至少一个第一薄膜单元(3)中将供应流(2)分成渗透物流(5)和滞留物流(6),其特征在于,将所述滞留物流(6)的至少一部分输送给至少一个第二薄膜单元(7),在其中,在薄膜(8)的一侧上存在滞留物而在另一侧上存在溶液(9),该溶液的溶解物的浓度低于所述滞留物的浓度,从而所述溶液(9)的溶剂穿过所述薄膜(8)且稀释所述滞留物。
2. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述滞留物的压力在所述第二薄膜单元(7)中比在所述第一薄膜单元(3)中更小。
3. 根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,借助于装置(10)来利用所述滞留物在所述第一薄膜单元(3)与所述第二薄膜单元(7)之间的压差。
4. 根据权利要求3所述的方法,其特征在于,借助于换压器来利用所述滞留物在所述第一薄膜单元(3)与所述第二薄膜单元(7)之间的压差。
5. 根据权利要求3所述的方法,其特征在于,借助于涡轮来利用所述滞留物在所述第一薄膜单元(3)与所述第二薄膜单元(7)之间的压差。
6. 根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,稀释在所述第二薄膜单元(7)的滞留物侧上引起压力的升高。
7. 根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,借助于能量获取单元(11)来利用在所述第二薄膜单元(7)下游的滞留物的压力。
8. 根据权利要求7所述的方法,其特征在于,借助于涡轮来利用在所述第二薄膜单元(7)下游的所述滞留物的压力。
9. 根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其特征在于,输送给所述第二薄膜单元(7)的所述溶液(9)具有与输送给所述第一薄膜单元(3)的所述供应流(2)相同的溶解物的浓度。
10. 根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述溶液(9)和所述供应流(2)从相同的贮存器(1)中取出。
11. 根据权利要求10所述的方法,其特征在于,测量在已排出的溶液中的物质浓度且为了达到该物质浓度的设定值而相应地混合至所述第二薄膜单元的流入物。
12. 一种用于处理溶液的设备,带有至少一个第一薄膜单元(3),在其中,可将供应流(2)分成渗透物流(5)和滞留物流(6),其特征在于,所述设备包括至少一个第二薄膜单元(7),所述滞留物流(6)的至少一部分和溶液(9)可如此输送给该第二薄膜单元使得在所述第二薄膜单元(7)的薄膜(8)的一侧上存在滞留物而在另一侧上存在所述溶液(9),其中,在所述溶液(9)中的溶解物的浓度低于所述滞留物的浓度,从而所述溶液(9)的溶剂可穿过所述薄膜(8)且可稀释所述滞留物。
13. 根据权利要求12所述的设备,其特征在于,在所述第二薄膜单元(7)中可如此调节所述滞留物的压力使得其比在所述第一薄膜单元(3)中更小。
14. 根据权利要求12或13所述的设备,其特征在于,可借助于装置(10)来利用所述滞留物在所述第一薄膜单元(3)与所述第二薄膜单元(7)之间的压差。
15. 根据权利要求14所述的设备,其特征在于,可借助于换压器来利用所述滞留物在所述第一薄膜单元(3)与所述第二薄膜单元(7)之间的压差。
16. 根据权利要求12至15中任一项所述的设备,其特征在于,可借助于稀释在所述第二薄膜单元(7)的滞留物侧上实现压力的升高。
17. 根据权利要求12至16中任一项所述的设备,其特征在于,可借助于能量获取单元(11)来利用在所述第二薄膜单元(7)下游的滞留物的压力。
18. 根据权利要求17所述的设备,其特征在于,可借助于涡轮来利用在所述第二薄膜单元(7)下游的所述滞留物的压力。
19. 根据权利要求12至18中任一项所述的设备,其特征在于,可为所述第二薄膜单元(7)输送具有与可输送给所述第一薄膜单元(3)的所述供应流(2)相同的溶解物的浓度的溶液。
20. 根据权利要求19所述的设备,其特征在于,所述溶液(9)和所述供应流(2)可从相同的贮存器(1)中取出。
21. 根据上述权利要求中任一项所述的设备,其特征在于,设置有传感器以用于在所述设备的单个区段中测量物质浓度,其中,所述传感器与上一级的控制系统相连接,其中,在所述上一级的控制系统中可存储用于所述单个区段的设定值,其中,所述上一级的控制系统与可操控来用于调节设定值的执行器相连接。
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