[发明专利]电晕处理方法有效

专利信息
申请号: 201280006992.8 申请日: 2012-01-30
公开(公告)号: CN103338856B 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 武藤清;出口修央;仓本贤尚 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: B01J19/08 分类号: B01J19/08;C08J7/00;G02B1/12;H01T19/04;H05H1/24
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;赵曦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电晕 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种电晕处理方法,为对薄膜的表面进行电晕处理的方法,该方法具备如下工序:

在放电电极与接地辊之间产生电晕放电的工序:及

在所述电晕放电下,使薄膜在所述接地辊上移动的工序,

其中,所述放电电极被电极罩覆盖,

所述电极罩在所述接地辊侧具有开口部,

所述电极罩的开口部朝向横向、斜上方或上方。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个具有耐腐蚀性部件。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述放电电极、所述接地辊及所述电极罩中的至少一个的表面被施以耐腐蚀处理。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,由所述电极罩所包围的空间内的气体通过排气管进行排气,所述排气管具有耐腐蚀性部件或所述排气管的表面被施以耐腐蚀处理。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述放电电极被电极夹保持,所述电极夹具有耐腐蚀性部件或所述电极夹的表面被施以耐腐蚀处理。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中,所述电极罩为透明的。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中,所述薄膜为选自光学膜及保护膜中的至少一种。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中,所述薄膜的长度为1万米以上。

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