[发明专利]红外线反射基体无效
| 申请号： | 201280006708.7 | 申请日： | 2012-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN103328591A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 宫西恭子;藤田贵史;细见哲也 | 申请（专利权）人： | 长濑化成株式会社 |
| 主分类号： | C09D201/02 | 分类号： | C09D201/02;B32B27/00;C09D5/33;C09D7/12;C09D181/00 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 红外线 反射 基体 | ||
【权利要求书】：
1.一种红外线反射膜形成用的涂布剂，含有π共轭体系导电性聚合物。
2.一种红外线反射膜形成用的涂布剂，还包含粘合剂和/或抗氧化剂。
3.一种红外线反射膜，使用权利要求1或2所述的涂布剂所形成的红外线反射膜。
4.一种红外线反射基体，包含：
透明基体；和
对于所述透明基体涂布含有聚（3，4-二取代噻吩）和聚阴离子的复合体的涂布剂而形成的红外线反射层；
所述红外线反射基体全光纤透过率为60%以上。
5.根据权利要求4所述的红外线反射基体，其特征在于，所述聚阴离子为聚苯乙烯磺酸。
6.根据权利要求4或5所述的红外线反射基体，其特征在于，所述复合体的导电率为0.15（S/cm）以上。
7.根据权利要求4至6中任意一项所述的红外线反射基体，其特征在于，所述红外线反射层的膜厚为0.50μm以下。
8.根据权利要求4至7中任意一项所述的红外线反射基体，其特征在于，所述红外线反射基体的全光线透过率为70%以上。
9.根据权利要求4至8中任意一项所述的红外线反射基体，其特征在于，在5°正反射下、将铝沉积平面镜作为参考，对所述红外线反射基体测定的反射率的值在波长3000nm下为15%以上。
10.根据权利要求4至9中任意一项所述的红外线反射基体，其特征在于，所述涂布剂还包含粘合剂和/或抗氧化剂。
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