[发明专利]放大成像光学单元和包含该成像光学单元的测量系统

权利要求书

1.一种放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；49；50；51；53；60；61)，

-包含至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，所述成像光束路径(8)在所述成像光束路径(8)中相邻的反射镜(M1至M4)之间具有成像部分光线(25、19、20)，

-其中，所述光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；49；50；51；53；60；61)被设计为使得

--所述成像光束路径(8)中的第二个反射镜(M2)和所述成像光束路径(8)中的第三个反射镜(M3)之间的第一成像部分光线(19)，以及

--所述成像光束路径(8)中的所述第三个反射镜(M3)之后的第二成像部分光线(20)

--分别通过所述成像光束路径(8)中的第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的至少一个通口(21；21a、21b)。

2.根据权利要求1所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述第一成像部分光线(19)和所述第二成像部分光线(20)分别通过所述第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的同一通口(21)。

3.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述光学单元(7；27；32；34；39)被设计为使得在所述成像光束路径(8)中的第四个反射镜(M4)和所述像场(9)之间的第三成像部分光线(37)通过所述成像光束路径(8)中的所述第一个反射镜(M1)的所述镜体(22)。

4.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述通口(21)在所述成像光束路径(8)中至少按部分地被所述第二个反射镜(M2)遮蔽。

5.一种放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；53；55；57；61)，

-包含至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，

-具有至多为1300mm的结构长度T，结构长度T为所述物平面(11)和所述像平面(12)之间的距离，

-比率T/β小于1.5mm，其中T为所述结构长度，β为成像比例，

-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主光线(13)之间的物方主光线角度α为至少6°。

6.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于至少0.2的物方数值孔径。

7.根据权利要求1、2或5述的放大成像光学单元，其特征在于，所述物场(6)具有至少40μm x 200μm的尺寸。

8.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于，RMS波前像差至多为500mλ。

9.根据权利要求1、2或5所述的放大成像光学单元，其特征在于，畸变至多为63μm。

10.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，

-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主光线(13)之间的物方主光线角度α小于1°，或者

-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主光线(13)之间的物方主光线角度α至少为6°。

11.根据权利要求10所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述中心物场点的主光线(13)在所述成像光束路径(8)中的所述第一个反射镜(M1)上的照射点(28)、以及所述中心物场点的主光线(13)在所述成像光束路径(8)中的所述第四个反射镜(M4)上的照射点(29)位于一平面(30)的不同侧上，该平面(30)垂直于所述成像光学单元(27；34；41；47)的子午面，并且所述物平面(11)的法线(16)位于所述平面(30)中。