[发明专利]玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种含有SiO₂及Fe₂O₃且SiO₂的含有率为50质量%～70质量%的玻璃基板的制造方法。

背景技术

用于液晶显示装置的液晶面板主要由2片基板与其间的液晶材料构成。更具体而言，液晶面板是通过如下方法制造的：在玻璃基板上形成有彩色滤光片的基板与在玻璃基板上形成有TFT(Thin Film Transistor)等半导体元件的基板之间，夹持液晶材料，并利用密封剂对基板周围进行密封，由此制造所述液晶面板。

在制造液晶面板的工序中，透过玻璃基板而进行紫外线照射(波长300nm～380nm)。例如透过玻璃基板照射紫外线(波长300nm～380nm)，从而利用光刻技术或紫外线固化树脂来进行基板周围的密封。另外，也可使用透过玻璃基板照射紫外线，使液晶材料中的光聚物聚合，从而使液晶分子的取向稳定化的方法。近年来，在波长300nm～380nm之中，多使用波长300nm附近的紫外线，尤其期待提高波长300nm附近的紫外线透过率。

另一方面，已知在液晶显示元件所使用的上述玻璃基板中，从环境负担的观点出发，不使用氧化砷(As₂O₃)或氧化锑(Sb₂O₃)，而将氧化锡(SnO₂)或氧化铁(Fe₂O₃)用作澄清剂(专利文献1)。另外，也已知在该玻璃基板中，通过使Fe₂O₃的含有率增加而使其大于特定值，可显著地减少玻璃基板内的由气泡引起的缺陷水准的发生频率。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2010-509180号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在上述公报中所记载的将上述氧化锡(SnO₂)或氧化铁(Fe₂O₃)用作澄清剂的玻璃基板中，虽然规定了玻璃的组成，但具体将何种原料利用何种方法进行调合的情况并不明了。另外，有时也寻求一种紫外线的透过率高于上述公知玻璃基板的玻璃基板。

因此，本发明的目的在于提供一种玻璃基板的制造方法，在利用该制造方法制造液晶显示装置用玻璃基板时，可充分地进行玻璃的澄清，并且能够高效地制造波长300nm的透过率为30%以上的玻璃基板。

用于解决问题的手段

本发明的一个方式为含有SiO₂及Fe₂O₃且SiO₂的含有率为50质量%～70质量%的液晶显示装置用玻璃基板的制造方法。该制造方法具有如下工序：

原料调合工序，其中，至少使用以SiO₂作为主成分的二氧化硅原料与含有氧化铁的调整原料进行调合而制造玻璃原料；

熔解工序，其中，熔解所述玻璃原料而制造熔融玻璃；及

澄清工序，其中，对所述熔融玻璃进行澄清。

所述二氧化硅原料含有作为杂质的氧化铁，在以Fe₂O₃表示所述氧化铁时，所述二氧化硅原料含有0.001质量%～0.028质量%的Fe₂O₃，所述调整原料在所述玻璃原料中的含量是按照所述液晶显示装置用玻璃基板的波长300nm的透过率为30%以上的方式来进行调整的。

此时，优选的是，进一步根据所述熔融玻璃在所述澄清工序中的澄清效果来调整所述调整原料的所述含量。

此时，优选的是，相对于所制造的玻璃基板中所含的Fe₂O₃的含量，源自所述二氧化硅原料的杂质的玻璃基板中所含的Fe₂O₃的含量为50质量%以下。

另外，优选的是，所述玻璃基板含有1质量%～10质量%的CaO，

所述玻璃原料除所述二氧化硅原料以外，还含有为所述CaO的原料的石灰石，

所述石灰石含有作为杂质的氧化铁，在以Fe₂O₃表示所述石灰石所含有的氧化铁时，所述石灰石含有0.001质量%～0.05质量%的Fe₂O₃，