[发明专利]光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置

权利要求书

1.一种光学式膜厚测量装置，该光学式膜厚测量装置是具有旋转型的基体保持单元的光学薄膜形成装置的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

所述光学式膜厚测量装置具备：

投射部，其从所述旋转型的基体保持单元的旋转轴线的一方侧朝向所述基体保持单元的内部投射测定光；

受光部，其接收来自该投射部的测定光；

多个内部分束器，所述多个内部分束器被设置在所述基体保持单元的内部，并且将从所述投射部投射出的所述测定光向基体反射；

内部光反射部件，其被设置在所述基体保持单元的内部，并且对来自所述多个内部分束器中的最靠近的内部分束器的测定光进行全反射；

多个外部分束器，所述多个外部分束器被设置在所述基体保持单元的外侧，并且将来自所述多个内部分束器的测定光朝向所述受光部反射；以及

外部光反射部件，其被设置在所述基体保持单元的外侧，并且将来自所述光反射部件的测定光朝向所述受光部反射，

被所述多个内部分束器及所述内部光反射部件反射的测定光在透过所述基体之后，被所述多个外部分束器及所述外部光反射部件反射并导向所述受光部，从而对测定光进行接收。

2.如权利要求1所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

所述基体保持单元的旋转轴线位于构成所述基体保持单元的中心的中空状的旋转轴体内，所述内部分束器及所述内部光反射部件被配置在所述旋转轴体内，所述旋转轴体的壁面构成为能够使所述被反射出的测定光通过。

3.如权利要求1或2所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

被所述内部分束器及所述内部光反射部件反射出的测定光为大致相等的光量。

4.如权利要求1～3中任一项所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

所述光学式膜厚测量装置具备膜厚运算部，所述膜厚运算部基于由所述受光部接收到的所述测定光运算在所述基体形成的薄膜的膜厚。

5.如权利要求1～4中任一项所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

所述多个外部分束器及所述外部光反射部件被中空的框体覆盖，该框体的供测定光入射的部分构成为能够使测定光通过。

6.如权利要求1～5中任一项所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

在所述多个外部分束器及所述外部光反射部件之间设置有快门装置。

7.如权利要求1～6中任一项所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

所述投射部与所述受光部被设置在所述光学薄膜形成装置的相同方向或相同的面的位置。

8.如权利要求1～7中任一项所述的光学式膜厚测量装置，其特征在于，

所述投射部与所述受光部被设置在所述光学薄膜形成装置的相反侧的方向或相反侧的面的位置。

9.一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置是用于形成薄膜的旋转型的薄膜形成装置，

所述薄膜形成装置具备：

基体保持单元，所述基体保持单元在保持被配置在真空容器内的基体的状态下能够以旋转轴线为中心进行旋转；

膜原料物质供给单元，其向所述真空容器供给用于形成薄膜的膜原料物质；以及

成膜流程区域，在所述成膜流程区域中，在所述基体上形成薄膜，

所述薄膜形成装置的特征在于，

所述薄膜形成装置采用所述权利要求1～8中任一项所述的光学式膜厚测量装置。