[实用新型]离子源和质谱仪有效
| 申请号: | 201220736265.4 | 申请日: | 2012-12-27 |
| 公开(公告)号: | CN203386713U | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
| 发明(设计)人: | 艾德里安·兰德;斯图尔特·C·汉森 | 申请(专利权)人: | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号: | H01J49/16 | 分类号: | H01J49/16;H01J49/26 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 李晓冬 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 离子源 质谱仪 | ||
1.一种离子源,其特征在于包括:
离子漏斗,该离子漏斗包括在第一端处的第一开口和在第二端处的第二开口,所述第一开口被配置为接收中性分析物分子;以及
电离设备,该电离设备被配置为对所述离子漏斗中的所述中性分析物分子进行电离。
2.根据权利要求1所述的离子源,还包括毛细管进样口,该毛细管进样口被配置为将所述中性分析物分子传送到所述第一开口。
3.根据权利要求2所述的离子源,其中,所述毛细管进样口与气相色谱仪流体连通。
4.根据权利要求1所述的离子源,其中,所述电离设备包括以下各项之一:
电磁辐射源和电子源。
5.根据权利要求4所述的离子源,其中,所述电磁辐射源包括真空紫外辐射源。
6.根据权利要求5所述的离子源,其中,所述真空紫外源包括以下各项之一:
微等离子真空紫外源、准分子真空紫外源、直流激励气体放电源、交流激励气体放电源、激光源。
7.根据权利要求5所述的离子源,其中,所述真空紫外源是第一真空紫外源,并且所述离子源还包括第二真空紫外源,所述第一真空紫外源和第二真空紫外源分别被放置为相对于所述离子漏斗的对称轴有一角度。
8.根据权利要求7所述的离子源,还包括第三真空紫外源和第四真空紫外源,所述第三真空紫外源和第四真空紫外源分别被放置成使得来自所述第二真空紫外源、所述第三真空紫外源和所述第四真空紫外源的光子与所述离子漏斗内的所述中性分析物分子相互作用。
9.根据权利要求4所述的离子源,其中,所述电离设备是第一电离设备,并且所述离子源还包括第二电离设备。
10.根据权利要求9所述的离子源,其中,所述第二电离设备包括电磁辐射源和电子源中的一项,并且所述第一电离设备不同于所述第二电离设备。
11.根据权利要求9所述的离子源,其中,所述第二电离设备包括电磁辐射源和电子源中的一项,并且所述第一电离设备与所述第二电离设备相同。
12.根据权利要求10所述的离子源,其中,所述电离设备还包括第三电离设备和第四电离设备。
13.根据权利要求12所述的离子源,其中,所述第三电离设备包括电磁辐射源和电子源中的一项,并且所述第四电离设备包括电磁辐射源和电子源中的一项。
14.根据权利要求13所述的离子源,其中,所述第一电离设备、所述第二电离设备、所述第三电离设备和所述第四电离设备是相同的。
15.根据权利要求13所述的离子源,其中,所述第一电离设备、所述第二电离设备、所述第三电离设备和所述第四电离设备中的至少一个是不同的。
16.一种质谱仪,其特征在于包括权利要求1所述的离子源。
17.根据权利要求16所述的质谱仪,还包括:
与所述第一离子漏斗串列的第二离子漏斗,所述第二离子漏斗包括在第一端处的第一开口和在第二端处的第二开口,所述第一开口被配置为从所述第一离子漏斗的第二端接收分析物离子。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安捷伦科技有限公司,未经安捷伦科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220736265.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于冷却内燃机的冷却系统
- 下一篇:具有圆锥形端部的多晶金刚石压实体切割器





